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据日经BP社报道，日本USHIO电机开发出了可发出波长为193nm单色光的准分子紫外灯（ExcimerLamp）。该成果为全球首创。无需使用昂贵的激光器即可用于ArF液浸光刻（Lithography）所需要的保护膜、材料。2008年9月开始面向研发
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