7 nm LP-维库电子市场网

7 nm LP

在今天举行的Samsung Tech Day上，三星宣布7LPP工艺进入量产，并表示基于EUV光刻技术的7LPP工艺对比现有的10nm FinFET工艺，可以提高20%性能、降低50%功耗、提升40%面积能效。　　　三星电子的代工销售和营销团队执行副总裁Charlie Bae...

分类：业界动态时间：2018/10/19 阅读：390 关键词：Intel 三星

三星官方宣布，已经开始进行7nm LPP（Low Power Plus）工艺芯片的量产工作。　　据悉，三星的7nm LPP采用EUV光刻，机器采购自荷兰ASML（阿斯麦），型号为双工件台NXE:340...

分类：名企新闻时间：2018/10/18 阅读：451 关键词：EUV光刻技术三星

先来说下格芯技术层面的考量。首先肯定的是，7 nm LP工艺目前被看作是摩尔定律下的半导体工艺一个转折点。众所周知，在制程推进到10nm以内后，研发难度会越来越大，这点从Intel的10nm从2016年跳票到2019年就可以看出。此前，得益于三星背...

分类：业界动态时间：2018/8/29 阅读：504 关键词：7 nm LP 格芯