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光刻机

光刻机资讯

光刻机技术

一文读懂半导体业的印钞机——EUV光刻机

1965年,戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。   这个不断触碰半导体工艺极限的定律,也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人...

基础电子 时间:2018/5/28 阅读:702

步进扫描光刻机

步进扫描光刻系统是一种混合设各,融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术,是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭...

基础电子 时间:2008/12/2 阅读:3934

分步重复光刻机

图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间,掩模图像是被缩小了5~10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点:第一,可以利用大得多的...

基础电子 时间:2008/12/2 阅读:2814

接触式/接近式光刻机

对于接触式光刻机,曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上,其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸,常用的光源分辨率为0.5gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要...

基础电子 时间:2008/12/2 阅读:2393

应用传统紫外光刻机进行紫外压印

1引言自1995年纳米压印技术提出以来,人们希望通过该技术实现低成本、高分辨率、高效率、大面积的批量制备纳米结构。但是,传统的热压印技术需要加热、高压环节,从而造成压印环节复杂、难于控制。1999年,美国得克萨斯州大学的研究小组...

设计应用 时间:2007/12/17 阅读:1632

光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机

光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日,中国科学院光电技术研究所为适应市场需求,成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机,并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高,汞灯寿命长)、双目双视场显微

新品速递 时间:2007/12/6 阅读:1432

光刻机的匹配和调整

周虎明韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡214035)摘要:光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:2679

ASML lithography: 目前世界上最先进的光刻机

TWINSCAN™XT:1700iTheXT:1700iwithHydroLithimmersiontechnologydeliverstheworld’sfirst1.2hyperNAforhigh-volumemanufacturi

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1892

光电所i线深度光刻机品质满足市场生产线需求

中科院<aclass="bl"title="院属机构&gt;科研机构&gt;高技术领域&gt;光电技术研究所"href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1048

TG2U型光刻机

■[产品名称]:TG2U型光刻机■[工艺方案]:半导体设备■[产品简介]:产品特点:TG2U型光刻机是制造中,大规模集成电路,传感器,表面波元件,磁泡,微波和CCD等器件的重要光刻设备。■说明TG2U型光刻机主要技术参数见下表:项目参数适用...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1172

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