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光刻机

光刻机资讯

华虹12寸晶圆厂装备大陆最先进沉浸式光刻机:迈向14nm

中芯国际花了1.2亿美元从荷兰ASML(阿斯麦)买来一台EUV极紫外光刻机,未来可用于生产7nm工艺芯片,长江存储也迎来了自己的第一台光刻机,同样来自ASML,不过是193nm沉浸...

分类:业界动态 时间:2018/5/21 阅读:172 关键词:中芯国际 长江存储 

中国有了光刻机核心技术

对于普通人来说,光刻机或许是一个陌生的名词,但它却是制造大规模集成电路的核心装备,每颗芯片诞生之初,都要经过光刻技术的锻造。记者13日从清华大学获悉,国家科技重大...

分类:业界要闻 时间:2016/5/16 阅读:59 关键词:光刻机 

ASML TWINSCAN光刻机芯片制造刷新生产记录

ASML近日宣布,两位使用TWINSCAN光刻机的芯片制造商实现了生产新纪录,即在24小时内实现了超过4000片晶圆的处理。这个里程碑记录是在XT:870和XT:400上实现的,两家使用者为亚洲的不同客户。设备帮助他们提高了300mm光刻生产能力。

分类:名企新闻 时间:2010/12/3 阅读:160

沉浸式光刻机供货紧缺 台系内存芯片厂制程升级受阻

据内存业者透露,由于着名光刻设备厂商ASML生产的NXT:1950i沉浸式光刻机目前供货十分紧缺,因此台系内存芯片厂商收到所订购的这种设备的时间可能会再后延12个月之久,由于NXT:1950i沉浸式光刻机对这些厂商转移到38nm以上级别制程至关重要

分类:业界要闻 时间:2010/9/9 阅读:1198 关键词:光刻机 

英特尔核心生产设备光刻机通关入区

日前,英特尔大连芯片厂核心生产设备顺利通关入区.这批重要生产设备的运抵标志着英特尔大连芯片厂的安装调试进入了新的关键阶段.此次入区的设备是应用于晶圆制造关键工艺环节的光刻设备.为确保设备及时安全入库,大连开发区管委会高度重视,...

分类:业界要闻 时间:2009/11/19 阅读:41 关键词:英特尔 光刻机 

SUSS MicroTec推出用于光刻机新型照明系统

SUSSMicroTec是领先的三维集成、MEMS、先进封装、纳米技术等设备方案的供应商。SUSS新推出了“MO曝光光学系统”(MOExposureOptics)。这是一种新型的照明系统,专为各类手动和自动的SUSS光刻机而设计。该光学系统基于独特

分类:名企新闻 时间:2009/6/5 阅读:116 关键词:照明系统 光刻机 

Mapper光刻机延期交货长达三月台积电制程研发或受影响

据海外媒体消息,台积电的光刻机供货商Mapper公司已将300mm光刻设备交货日延期近三个月之久。Mapper的多束电子束(e-beam)光刻机原计划于今年第一季度装备台积电300mm工厂,但由于技术上的原因Mapper公司拖延了交货日期,此举可能

分类:名企新闻 时间:2009/5/26 阅读:629 关键词:光刻机 

SUSS光刻机实现大面积纳米压印光刻

SUSS——全球领先的三维、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商,于2008年10月7日宣布,其手动光刻机,外加一个纳米压印的组件,即可对大面积图形重复进行亚50纳米的压印。这项新技术名为“基板完整压印光刻”(SCIL),由荷兰埃因霍恩飞...

时间:2008/10/13 阅读:44 关键词:光刻机 

SUSS推出新一代手动光刻机适用于工业研究及半自动生产

SUSSMicroTec——全球领先的三维集成、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商,于2008年10月1日推出第三代MA/BA8,这款手动双面对准光刻机包含专用于厚胶曝光的亚微米对准及曝光光学系统,具有高度的工艺灵活性。还可轻易升级为多种新兴技

分类:名企新闻 时间:2008/10/10 阅读:66 关键词:光刻机 

EVG采用300mm晶圆光刻机制造MEMS透镜

奥地利EVGroup(EVG)宣布,为形成手机用相机模块高耐热镜头,芬兰HeptagonOy采用了EVG的光刻机(MaskAligner)“IQAligner”。EVG高级副总裁HermannWaltl表示,Heptagon采用的是支持300mm晶

分类:名企新闻 时间:2008/8/8 阅读:63 关键词:MEMS 

光刻机技术

一文读懂半导体业的印钞机——EUV光刻机

1965年,戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。   这个不断触碰半导体工艺极限的定律,也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人...

基础电子 时间:2018/5/28 阅读:336

步进扫描光刻机

步进扫描光刻系统是一种混合设各,融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术,是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭...

基础电子 时间:2008/12/2 阅读:3750

分步重复光刻机

图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间,掩模图像是被缩小了5~10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点:第一,可以利用大得多的...

基础电子 时间:2008/12/2 阅读:2742

接触式/接近式光刻机

对于接触式光刻机,曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上,其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸,常用的光源分辨率为0.5gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要...

基础电子 时间:2008/12/2 阅读:2343

光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机

光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日,中国科学院光电技术研究所为适应市场需求,成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机,并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高,汞灯寿命长)、双目双视场显微

新品速递 时间:2007/12/6 阅读:1356

光刻机宏动试验运动平台设计及其减振系统仿真研究

(中南大学机电工程学院,湖南长沙410083)摘要:对ADAMS的求解原理进行了简单介绍并运用ADAMS仿真软件分别建立了两种结构对应的虚拟仿真模型,对减振系统分别无主动控制和有主动控制进行了仿真研究。以光刻机为代表的集成电路设备是光、...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1738

光刻机的匹配和调整

周虎明韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所,江苏无锡214035)摘要:光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配,如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:2616

ASML lithography: 目前世界上最先进的光刻机

TWINSCAN™XT:1700iTheXT:1700iwithHydroLithimmersiontechnologydeliverstheworld’sfirst1.2hyperNAforhigh-volumemanufacturi

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1822

光电所i线深度光刻机品质满足市场生产线需求

中科院<aclass="bl"title="院属机构&gt;科研机构&gt;高技术领域&gt;光电技术研究所"href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:999

TG2U型光刻机

■[产品名称]:TG2U型光刻机■[工艺方案]:半导体设备■[产品简介]:产品特点:TG2U型光刻机是制造中,大规模集成电路,传感器,表面波元件,磁泡,微波和CCD等器件的重要光刻设备。■说明TG2U型光刻机主要技术参数见下表:项目参数适用...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1103

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