三星电子2nm工艺良品率提升至55% 仍大幅落后台积电

类别:业界要闻  出处:维库电子市场网  发布于:2026-04-15 10:03:11 | 50475 次阅读

  行业数据显示,三星电子在2nm制程工艺方面取得进展,良品率已从去年下半年的不足20%提升至目前的55%左右。然而这一成绩仍较竞争对手台积电落后约一成,后者良品率稳定在60%-70%区间。
  业内人士分析指出,若考虑性能分级和后端封测流程的损耗,三星2nm工艺的实际有效良率可能低至40%。这一水平不仅难以满足高通等主要Fabless客户的代工需求(通常要求70%左右),更凸显出三星在先进制程量产稳定性方面的不足。
  据供应链消息,良率差距已促使高通考虑将下一代应用处理器订单从三星转向台积电。这一潜在转变反映了芯片行业的核心竞争逻辑:在先进制程节点上,良率直接决定了企业的盈利能力和市场竞争力。
  当前台积电凭借更成熟的2nm工艺,已获得苹果、英伟达和AMD等头部客户的订单。若再成功承接高通订单,将进一步巩固其在2nm领域的领先优势。对三星而言,尽管良率持续改善,但追赶台积电仍面临严峻挑战,特别是在满足大客户对稳定量产的高标准要求方面。

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