中美之间的霸权竞争正不断侵蚀全球供应链，其影响已从先进的人工智能（AI）半导体领域，蔓延至构成全球 IT 基础设施支柱的传统半导体制造设备。美国政府和国会不仅试图控制对先进微工艺至关重要的极紫外（EUV）光刻设备，还开始积极推动对中国出口和维护深紫外（DUV）浸没式光刻设备实施全面制裁。深紫外光刻设备是传统芯片生产的核心环节，虽然其生产水平略低于 EUV 设备，但在芯片制造中依然起着关键作用。
　　美国国会大力推动的《硬件技术控制多边协调法案》（MATCH Act），已在外交事务委员会获得通过。该法案包含三项极端强硬措施：一是将深紫外浸没式光刻设备本身指定为 “瓶颈”，而非针对特定受益公司；二是全面封锁已在中国安装的约 1400 台 ASML 设备的零部件更换和售后服务；三是若盟国在 150 天的宽限期内未能达成协议，则对含有美国制造软件和组件的外国设备实施强制性全面管制。美国采取这些措施的原因在于现有法规存在漏洞，尽管此前美国阻止先进极紫外光刻设备的引进，但中国的晶圆代工厂中芯国际和华为通过 “多重曝光” 技术，利用先前获得的深紫外光刻设备量产 7 纳米级先进处理器，实现了先进军用芯片和高性能人工智能半导体的自主生产。
　　这一法案引发了荷兰的强烈反对。荷兰政府以罕见的强硬姿态反击美国单方面的制裁，荷兰外交部外贸大臣斯约德?斯约德斯马飞往华盛顿，与美国商务部长和国会重要人物会晤，敦促其重新考虑该法案。荷兰政府虽认同从安全角度防止先进技术泄露的前提，但认为不能演变为单方面对盟国施加义务的域外强制管辖权。荷兰外交部长斯约尔斯马表示 “不希望合作演变成胁迫”，强调荷兰作为独立主权国家有权自行决定是否遵守跨越大西洋的强制措施。从经济角度看，ASML 是荷兰乃至整个欧洲股市市值的科技企业，若按照美国要求切断其 DUV 设备和高利润维护业务的收入，其企业基本面将面临崩溃风险，因为这将使其总收入的 15% 到 20% 瞬间消失。因此，荷兰宣布扼杀 ASML 的《MATCH 法案》不容谈判。
　　对于韩国半导体产业的两大支柱三星电子和 SK 海力士而言，美国主导的额外 DUV 法规是一把双刃剑。在传统的 DRAM 和 NAND 闪存市场，此前受中国低成本、大批量生产攻势的影响，韩国企业的单价议价能力和市场份额在短期内有望得到巩固。然而，致命的风险在于三星电子位于西安的 NAND 闪存工厂和 SK 海力士位于无锡的 DRAM 工厂。这两家公司目前虽享有美国商务部授予的 “终用户（VEU）” 身份，在设备进口方面有一定豁免期，但如果《MATCH 法案》通过，豁免条款极有可能被废除。由于存储半导体微型化速度快，定期更换老旧 DUV 设备的零部件和进行性能升级至关重要，若维护服务被禁止，韩国在中国的工厂将沦为只能生产过时芯片的回收工厂，每年承担数万亿韩元的折旧成本，终走向崩溃。
　　警告，若美国全面实施 DUV 管制措施，其影响可能蔓延到半导体行业之外，引发全球制造业生态系统的供应链危机。采用深紫外光刻设备生产的 14 纳米至 28 纳米及以上尺寸的半导体是汽车、医疗器械、家用电器和电网基础设施的核心部件，一旦设备维护受阻，中国晶圆代工厂产能利用率骤降，新冠疫情期间全球汽车半导体供应短缺的局面很可能重演。中国政府也不会坐视不管，极有可能采取报复措施，对半导体和电池制造中使用的关键稀有矿物（如镓、锗和石墨）实施更严格的出口管制，这将加剧西方半导体企业的制造成本上涨和供应链不稳定。
　　终，美国推动《MATCH 法案》以及荷兰的强力否决权，象征着全球半导体生态系统正逐渐分裂为 “亲美和西方联盟” 与 “独立的中国阵营” 两个集团体系。尽管距离法案终通过和具体条款敲定还有数月谈判时间，但普遍认为对华技术封锁减弱的可能性极低。为维护资本市场信任，半导体企业必须紧急加快全球供应链管理（SCM）重组。