对半导体过程和传输腔室的压力测量

工业镀膜

低真空和超高真空范围内的一般真空测量和控制
类型 BPG402-S

测量范围（空气、O2、CO、N2）      5×10-10 … 1000

精度

10-8 … 10-2 毫巴    % of reading    ±15

可重复性

10-8 … 10-2 毫巴    % of reading    5

除气 (1)

p < 7.2 × 10-6 mbar    electron bombardment, max. 3 min

压力，zui大   bar (absolute)  2

温度

运行（环境） °C 0 … +50

贮存 °C -20 … +70

在法兰处烘烤，无电子设备 BPG402-S °C 80

无电子设备，在法兰处烘烤 BPG402-SL    °C 150

电源电压     +20 … +28

输出信号模拟

输出信号 V   0 … +10

测量范围 V   +0.774 … +10

电压与压强   volts per decade    0.75

错误信号 V   0.1 / 0.3 / 0.5

zui小负载电阻 kΩ  10

设定点继电器

设定点数量       1

范围 mbar    1×10-9 … 100

继电器触点       n.o., potential free

滞后 % of reading    10

触点额定值       ≤30

数字功能     degas

接口（数字）(2)      RS232C

发射控制     automatic / manual via interface

单丝    two Yt2O3 coated Ir

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