北京特博万德科技有限公司长期供应 研发型感应耦合等离子刻蚀系统， 

研发型感应耦合等离子刻蚀系统具体信息如下：

主要特点：

1. 可以适用于Si，Ge，GaAs，InP，GaN, InSb，ZnS, GaN, SiC, 金属等的刻蚀

2. 可用于6”wafers

3. 氦气背面冷却

4. 8路气体，O2, SF6，CH4, H2, Cl2, N2, Ar, CHF3

 研发型感应耦合等离子刻蚀系统为进口产品，质量保证，众多客户见证，值得信赖，

如有需要，欢迎来电咨询相关产品信息。

企业名：北京特博万德科技有限公司

类型：经销商

电话： 010-87700693

手机：13810504825

联系人：李先生

QQ：

邮箱：sales@topvendor.com.cn

地址：北京北京市朝阳区建国东路15号北岸1292大厦B座1102