材料光谱仪iEDX-150WT技术指标：

　　多镀层，1~4层

　　测试精度：0.01 um

　　多次测量重复性误差<0.1%

　　元素分析范围从铝（Al）到铀（U）

　　测量时间：10-60秒

　　Si-PIN探测器，能量分辨率为149电子伏特

　　微焦X射线管50KV/1mA,钨靶，焦斑尺寸 75um, 寿命大于3万小时

　　7个准直器及6个滤光片自动切换

　　XYZ三维移动平台，荷载为5公斤

　　高清CCD摄像头，监控位置

　　多变量非线性去卷积曲线拟合

　　高性能FP/MLSQ分析

　　平台尺寸 700x580x25 mm

　　平台移动范围 300（X）x300（Y）x25 （Z）mm

　　材料光谱仪具有重现性好，测量速度快，灵敏度高的特点。能分析F（9）~U（92）之间所有元素。样品可以是固体、粉末、熔融片，液体等，分析对象适用于炼钢、有色金属、水泥、陶瓷、石油、玻璃等行业样品。无标半定量方法可以对各种形状样品定性分析，并能给出半定量结果，结果准确度对某些样品可以接近定量水平，分析时间短。薄膜分析软件FP-MULT1能作镀层分析，薄膜分析。测量样品的尺寸要求为直径51mm,高40mm.

　　材料光谱仪iEDX-150WT荧光光谱：

　　能量色散X射线荧光光谱采用脉冲高度分析器将不同能量的脉冲分开并测量。能量色散X射线荧光光谱仪可分为具有高分辨率的光谱仪，分辨率较低的便携式光谱仪，和介于两者之间的台式光谱仪。高分辨率光谱仪通常采用液氮冷却的半导体探测器，如Si（Li）和高纯锗探测器等。低分辨便携式光谱仪常常采用正比计数器或闪烁计数器为探测器，它们不需要液氮冷却。采用电致冷的半导体探测器，高分辨率谱仪已不用液氮冷却。同步辐射光激发X射线荧光光谱、质子激发X射线荧光光谱、放射性同位素激发X射线荧光光谱、全反射X射线荧光光谱、微区X射线荧光光谱等较多采用的是能量色散方式。

　　材料光谱仪iEDX-150WT全反射荧光：

　　如果n1n2,则介质1相对于介质2为光密介质，介质2相对于介质1为光疏介质。对于X射线，一般固体与空气相比都是光疏介质。所以，如果介质1是空气，那么α1α2,即折射线会偏向界面。如果α1足够小，并使α2=0,此时的掠射角α1称为临界角α临界。当α1<α临界时，界面就象镜子一样将入射线全部反射回介质1中，这就是全反射现象。

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