产品型号：
WHZAY-160D 双面研磨抛光机
产品简介：
WHZAY-160D 双面研磨抛光机是一种*双面研磨和抛光设备. 它能同时对4片*大2" 的基片进行双面研磨和抛光, 并获得在直径2"区域内TTV 小于1um .所以它是一台在实验室研磨抛光Si, Ge 和氧化物单晶基片的理想工具。
带抛光垫的不锈钢下磨盘
带抛光垫的不锈钢下磨盘
固定不同尺寸的*轮
技术参数：
1、研磨盘尺寸: 225(外径）x 94（内径）x 15（厚度）mm
2、上磨盘的重量及配重: 5.5kg (3kg 配重)
3、*轮规格: z=54 m=1.5 dia.81mm (环氧)
4、*轮*多使用数量: 4
5、*大加工基片尺寸: dia. 60mm
6、平面度和平行度: 0.001mm
7、研磨和抛光精度: /-0.001mm
8、 表面质量: > grade 10
9、输入电源: 单相 AC 220v
10、电机: DC110V/600W/0~1500rpm 可调
产品规格：
外形尺寸: 615x375x494mm 净重: 80kg
可选配件：
一套*轮有4个，不是标配件，但我司能提供。一个*轮能固定基片的尺寸和数量如下:
一片直径 60 mm 或2" 基片
3 片直径 1" 基片
14 片10x10mm 基片
如需订购，请告知基片抛光后的尺寸和厚度 |
