膜厚测试仪性能，可测量任一测量点，可达0.025 x 0.051毫米。能够测量包含原子序号13至92的典型元素的电镀层、镀层、表膜和液体,极薄的浸液镀层（银、金、钯、锡等）和其它薄镀层。区别材料并定性或定量测量合金材料的成份百分含量可同时测定多5层、15 种元素。 度领先于世界，到0.025um (相对与标准片) 
数据统计报告功能允许用户自定义多媒体分析报告格式，以满足您特定的分析报告格式要求 ；如在分析报告中插入数据图表、测定位置的图象、CAD文件等。 统计功能提供数据平均值、误差分析、值、值、数据变动范围、相对偏差、UCL(控制上限)、LCL(控制下限)、CpK图、直方图、X-bar/R图等多种数据分析模式。 X射线荧光测厚仪能够测量多种几何形状各种尺寸的样品；
膜厚仪操作 WINWIF系统、WIN系统及FIM系统，其适合用于微电子器件、数据偶合器、光通讯和数据贮存、半导体、光通讯、微电子、光子学、无源器件和薄层磁头金属化分析等。

膜厚仪操作，BOWMAN膜厚仪能提供各类金属层、合金层厚度的快速、准确、稳定、无损的测量，同时可对电镀液进行分析，

不单性能优越,而且价钱超值，同比其他牌子相同配置的机器菲希尔镀层测厚仪 为您大大节省成本。

是线路板、五金电镀、首饰、端子等行业的。

.博曼膜厚测试仪 可应用于在线膜厚测量,测氧化物,SiNx,感光保护膜和半导体膜.也可以用来测量镀在钢,铝,铜,

陶瓷和塑料等上的粗糙膜层. 薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,

因此可通过计算得到薄膜的厚度.光干涉法是一种无损,且快速的光学薄膜厚度测量技术,薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。

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