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日本USHIO电机开发出ArF波长的准分子紫外灯 可用于ArF液浸光刻设备

据日经BP社报道,日本USHIO电机开发出了可发出波长为193nm单色光的准分子紫外灯(ExcimerLamp)。该成果为全球首创。无需使用昂贵的激光器即可用于ArF液浸光刻(Lithography)所需要的保护膜、材料。2008年9月开始面向研发

分类:名企新闻 时间:2007/12/4 阅读:372 关键词:紫外灯

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