种类:元素半导体 特性:高纯单晶硅 用途:用于二*管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造,其后续产品集成电路和半导体分离器件
*新研发出依托悬浮区熔技术的区熔单晶硅,高纯含量。
区熔炉FZ-30晶体生长设备设计生长直径达4”,长度达2000mm的单晶硅。
区熔炉的主要规格:
上、下轴提拉速度 0~30毫米/分
上、下轴转速 0~30转/分
上行程 2000毫米
下行程 2600毫米
发生器频率 2.5MHZ
发生器功率 120KW
发生器功率控制通过可控硅整流器控制 0~100%
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