华为回应美众议院：任何政府都可检查设备

10月29日消息，据外国媒体报道，华为今日表示，该公司对任何政府都开放对其设备的检查。而在此之前，美国众议院情报委员会警告中国两家电信公司(华为和中兴)的设备对美国安全构成威胁。华为全球网络安全负责人约翰萨福克(JohnSuffolk)表...

分类：业界要闻 时间：2012/10/31 阅读：854 关键词：检查设备

AMAT发布面向22nm工艺的掩模检查设备

美国应用材料（AMAT）发布了掩模检查设备“Aera3”.支持22nm工艺，检测灵敏度较该公司原机型“Aera2”提高50%,同时还配备了可支持ArF液浸及EUV（extremeultraviolet）两种光刻技术的功能。作为面向ArF液浸的功能，

分类：新品快报 时间：2010/9/16 阅读：225 关键词：检查设备

尼康支持半间距40nm工艺的自动宏观检查设备 AMI-3400即将上市

据日经BP社报道，尼康将于2007年12月15日上市支持300mm晶圆（半间距为40nm）半导体量产线的自动宏观检查设备AMI-3400。该设备应用了波动光学原理。可以通过全面、高速地检测晶圆的剖面形状变化，将检测信息反馈给包括曝光装置在内的主

分类：行业趋势 时间：2007/12/7 阅读：870 关键词：40nm检查设备

Lasertec开发出液晶、印刷底板均可使用的中大型光掩膜缺陷检查设备

日本Lasertec开发出了可以支持各种CAD（ComputerAidedDesign）数据格式的中大型光掩膜图形缺陷检查设备“LI34/LI44”。该设备以支持光掩膜数据库格式“MEBES”的检查设备“51MD”系列的功能为基础，配备了可利用多种

分类：新品快报 时间：2006/10/18 阅读：6825 关键词：检查设备