Applied Materials公布第二财季报告 显示和太阳能业务弥补芯片业务颓势
全球排名的半导体设备供应商AppliedMaterials公布了截止2008年4月27日的第二财季报告。该季度公司销售额为21.5亿美元，较去年同期的25.3亿美元减少15％，较上季度的20.9亿美元增长3％。该季度毛利润率为45％，较去年同期
Applied Materials推出突破性掩模检测系统Aera2 性能无可匹敌已获数套订单
AppliedMaterials日前发布了其检测最快速功能最强大的掩模检测系统AppliedAera2(TM)MaskInspection。AppliedMaterials副总裁兼工艺诊断与控制事业部总经理RonenBenzion表示，Aera2系
2007年IC设备厂商排名出炉 Applied Materials夺冠
2007年IC设备厂商排名出炉AppliedMaterials夺冠据VLSIResearchInc.发布的数据显示，2007年对大多数IC设备厂商来说发展较稳定，业绩基本满意。估计2007年全球IC设备厂商总收入为575亿美元，增长8%。其中，前十
分类：业界要闻 时间：2008/3/31 阅读：970 关键词：material
Applied Materials多元化经营新成绩 接获19亿美元太阳能设备订单
全球的半导体设备制造商AppliedMaterials日前宣布，接获自公司成立以来金额的一笔太阳能设备订单，交易价值19亿美元。AppliedMaterials称该客户来自美国境外，但并未透露对方名称。AppliedMaterials于美国
SOI产业联盟添新成员 Applied Materials加入
SOI产业联盟日前宣布AppliedMaterials已经成为其成员之一。该联盟成立于2007年10月份，旨在推进SOI技术的创新加速SOI市场的成长，最初拥有会员19名，包括AMD、ARM、Cadence、CEA-Leti、Chartered、F
Applied Materials芯片制造设备订单持续走低 光伏领域前景喜人
由于芯片制造市场的不景气，AppliedMaterials订单出货比呈现出下降趋势，而太阳能设备领域将弥补营收缺口。据DeutscheBank分析师SteveO'Rourke表示，Applied自从五月份达到13.9亿美元营收高峰以来，订单量已经下
分类：行业趋势 时间：2008/1/3 阅读：122 关键词：material
SEZ收购案萌生悬疑 Applied Materials等巨头可能参与竞标
据EETimes网站报道，晶圆清洁设备制造商瑞士SEZGroup正引发起一场竞标悬疑。此前LamResearchCorp.表示决定收购SEZ，但路透社日前报道，AppliedMaterials、DainipponScreen和TEL等设备巨头同
分类：名企新闻 时间：2007/12/20 阅读：746 关键词：material
Applied Materials在台举办首次太阳能产业论坛 太阳能设备双管齐下
据Digitimes网站报道，AppliedMaterials12月4日在台湾举办首次太阳能产业论坛，论坛上Applied表示，跨足太阳能产业将采取单晶多晶硅模块及薄膜太阳能模块双管齐下的模式，论坛吸引台湾多家太阳能业者共襄盛举。论坛由能源暨环境解
Applied Materials再推新品 SEMVision G4亮相SEMICON Japan
AppliedMaterials再推新品SEMVisionG4亮相SEMICONJapan出自：SEMI编辑曹明霞AppliedMaterials日前推出了新一代缺陷识别SEM系统AppliedSEMVision(TM)G4，将SEMVision系
分类：新品快报 时间：2007/12/6 阅读：888 关键词：material
Applied Materials在SEMICON Japan推出新品
半导体设备巨头AppliedMaterials在SEMICONJapan展览上针对45nm及以下节点推出了FullVisionCMP实时监控系统。该系统结合Applied专有的window-in-pad技术及多波长分光技术能够为各种电介质材料提供终
分类：名企新闻 时间：2007/12/4 阅读：700 关键词：material
Applied Materials推出新款FullVision CMP终点监控系统
AppliedMaterials日前针对45nm节点及以下的电介质CMP工艺推出了新款AppliedFullVisionCMP终点监控系统。该系统结合了Applied专利的window-in-pad技术及多波长分光计，能够为各种材料提供终点检测，比
分类：新品快报 时间：2007/12/3 阅读：943 关键词：material
Applied Materials推出全新晶圆检测设备 欲于KLA－Tencor抗衡
AppliedMaterialsInc.已向精密测量领域迈进，日前发布了其的深紫外明视野晶圆检测设备——UVision3系统。据Applied介绍，该设备专为45nm节点关键缺陷监测而设计。如果配合灵敏光电倍增管（PMT）使用，UVision3
Applied Materials推出新款UVision 3明场检测设备 灵敏度生产力双双
AppliedMaterials日前推出业界生产能力的DUV明场晶圆检测设备AppliedUVision3，用于检测45nm前端制程及浸入式光刻工艺中的关键缺陷，并可满足32nm工艺研发之需。在AppliedUVision技术基础上，新款设备激
