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根据了解，Helio Display Materials宣布将把其基于钙钛矿的显示材料（由剑桥大学和牛津大学联合发明）转向中试规模生产。　　通过转换来产生所需颜色的光，节省高达40%的电...

分类：名企新闻时间：2023/12/12 阅读：361 关键词：显示材料

目前全球几乎所有计算机芯片都是使用Producer平台制造的　　自20年前Producer平台面世以来，已加工处理的晶圆面积达19亿平方米　　如今的Producer平台能够经过专门配置来应对摩尔定律下日益严峻的挑战　　加利福尼亚州圣克拉拉市，...

分类：名企新闻时间：2018/7/26 阅读：552 关键词：Applied Materials 材料公司

Applied Materials 应用材料公司取得突破性进展，大幅提升大数据和人工智能时代的芯片性能　　· 20年来晶体管接触和互联的金属材料首度重大变革，消除了7纳米节点及以下的主要性能瓶颈　　· 芯片设计人员现在可以用钴取代钨和铜，...

分类：名企新闻时间：2018/6/15 阅读：1064 关键词：pplied Materials 人工智能时代芯片

据市场研究公司VLSIResearch发布2010季度半导体设备厂商排名，Appliedmaterials继续保持。在排名前十的厂商中，Teradyne获得了增长幅度，主要受益于公司的SOC测试系统。其他增长不俗的厂商还有TokyoEl

分类：业界要闻时间：2010/7/14 阅读：1186 关键词：material 半导体

AppliedMaterials日前宣布了管理层重组方案，并立即生效。“AppliedMaterials看到了产业整体以及公司业务的巨大变化。公司在半导体设备方面的地位已经延伸至平板显示设备以及太阳能电池设备。”AppliedMaterials

分类：业界要闻时间：2009/9/22 阅读：1170 关键词：material

根据产业研究机构VLSIResearch的统计数据，在08年才首次全年度跨足太阳光电(PV)制造设备市场的应用材料(AppliedMaterials)，随即就站上大供货商的龙头宝座。VLSIResearch表示，应材08年的硅晶太阳能电

分类：业界动态时间：2009/7/15 阅读：1593 关键词：material

半导体微结构应用工艺和测试方案提供商SUSSMicroTec和半导体工艺开发公司ThinMaterials近日宣布将合作提供临时键合方案，用于新兴三维集成和封装技术所需的高难度薄晶圆片处理工艺。该合作将有助于SUSSMicroTec在临时键合和薄晶

分类：名企新闻时间：2009/7/13 阅读：1201 关键词：material

Gartner近日发布2008年半导体设备商排名，AppliedMaterials仍位居榜首。去年，尽管AppliedMaterials的销售收入减少39.8%，但市场份额占13.2%。ASML取代了TEL位居第二。ASML的先进技术使其193nm

分类：名企新闻时间：2009/4/16 阅读：1140 关键词：Gartner 半导体

有消息称，一家非上市公司将之前计划的19亿美元AppliedMaterialsSunFab太阳能电池设备订单额削减至2.5亿美元。2008年3月，AppliedMaterials称与一家公司签订了19亿美元的太阳能设备订单。AppliedMater

分类：名企新闻时间：2009/4/8 阅读：1309 关键词：material 太阳能设备

据EETimes网站报道，AppliedMaterials和FranciscoPartners最终放弃了对ASMInternational前端设备业务的收购计划。ASMI表示，公司与AppliedMaterials和FranciscoPartner

分类：名企新闻时间：2008/11/18 阅读：1426 关键词：material

AppliedMaterials日前推出了新一代缺陷识别SEM系统AppliedSEMVision(TM)G4，将SEMVision系统的生产能力拓展到45nm及以下节点。该设备将在SEMICONJapan上展出。SEMVisionG4最大的特点在

新品速递时间：2007/12/11 阅读：1796

AppliedMaterials日前针对45nm节点及以下的电介质CMP工艺推出了新款AppliedFullVisionCMP终点监控系统。该系统结合了Applied专利的window-in-pad技术及多波长分光计，能够为各种材料提供终点检测，比

新品速递时间：2007/12/6 阅读：4056

AppliedMaterialsInc.已向精密测量领域迈进，日前发布了其最新的深紫外明视野晶圆检测设备——UVision3系统。据Applied介绍，该设备专为45nm节点关键缺陷监测而设计。如果配合灵敏光电倍增管（PMT）使用，UVision3

新品速递时间：2007/11/30 阅读：1724