Applied Materials再推新品 SEMVision G4亮相SEMICON Japan
AppliedMaterials日前推出了新一代缺陷识别SEM系统AppliedSEMVision(TM)G4，将SEMVision系统的生产能力拓展到45nm及以下节点。该设备将在SEMICONJapan上展出。SEMVisionG4最大的特点在
新品速递 时间：2007/12/11 阅读：1826
Applied Materials推出新款FullVision CMP终点监控系统
AppliedMaterials日前针对45nm节点及以下的电介质CMP工艺推出了新款AppliedFullVisionCMP终点监控系统。该系统结合了Applied专利的window-in-pad技术及多波长分光计，能够为各种材料提供终点检测，比
新品速递 时间：2007/12/6 阅读：4125
Applied Materials推出全新晶圆检测设备 欲于KLA－Tencor抗衡
AppliedMaterialsInc.已向精密测量领域迈进，日前发布了其最新的深紫外明视野晶圆检测设备——UVision3系统。据Applied介绍，该设备专为45nm节点关键缺陷监测而设计。如果配合灵敏光电倍增管（PMT）使用，UVision3
新品速递 时间：2007/11/30 阅读：1745
