芯片材料

芯片材料技术

TI创新芯片材料技术突破漏电问题领跑45纳米乃至更高工艺技术

日前,德州仪器(TI)宣布计划在其最先进的高性能45纳米芯片产品的晶体管中采用高k材料。多年以来,人们一直考虑用高k介电层来解决漏电或耗用功率问题,随着晶体管日趋小型化,这一问题已变得日益严重。与通常采用的硅氧化层(SiO2)栅介电层...

新品速递 时间:2007/12/3 阅读:1383