富士胶片开发出了具有高透射率和弯曲性的透明导电薄膜。主要用于触摸面板，计划取代ITO薄膜使用。该公司在“第二届电子材料EXPO～材料日本～”（2011年1月19～21日，东京有明国际会展中心）上公开了试制品。此次开发的透明导电薄膜“采用了相机的
摘要：衬底温度在反应溅射制备ZnO:Al薄膜过程中是一个重要的工艺参数，直接决定这薄膜的性能。本文用中频脉冲磁控溅射方法，采用锌铝合金（Al的含量为2%）靶，在衬底温度170℃，工作压力2.5mTorr,氧氩比3/18的条件下，制备了ZnO:Al薄膜，利用X射线衍射仪对薄膜的结构进行了分析，利用分光光...
