Nikon扫描光刻设备需求看旺 订单多来自LCD和逻辑芯片制造商
据EETimes网站报道，日本设备商NikonCorp正在积极迎接来自液晶显示和逻辑芯片制造商们的巨大设备需求，以应对明年可能出现的存储制造商资本支出减少的局面。Nikon日前预测，明年其款的扫描光刻设备将会有强劲需求，用于微芯片和大面积玻...
日本USHIO电机开发出ArF波长的准分子紫外灯 可用于ArF液浸光刻设备
据日经BP社报道，日本USHIO电机开发出了可发出波长为193nm单色光的准分子紫外灯（ExcimerLamp）。该成果为全球首创。无需使用昂贵的激光器即可用于ArF液浸光刻（Lithography）所需要的保护膜、材料。2008年9月开始面向研发
分类：名企新闻 时间：2007/12/4 阅读：385 关键词：紫外灯
日月光订购SUSS MicroTec多套光刻设备 应用于先进封装工艺
据EDN网站报道，半导体设备制造商SUSSMicroTec近日表示，已获得封测大厂日月光的多套光刻设备订单。订单内容包括数套掩膜套准光刻机（MaskAligner）及涂胶烘烤显影光刻模组（LithographyCluster），所订购设备将安装在日
分类：名企新闻 时间：2007/11/26 阅读：771
RohmandHaasElectronicMaterials（罗门哈斯电子材料公司）将在前沿光刻设备方面投资6000万美元，为其用于半导体芯片制造的先进193nm光刻胶以及抗反射涂敷材料研发提供支持。作为此项投资的一部分，RohmandHaasEl
分类：业界要闻 时间：2007/7/2 阅读：3584
