Nikon扫描光刻设备需求看旺 订单多来自LCD和逻辑芯片制造商
据EETimes网站报道,日本设备商NikonCorp正在积极迎接来自液晶显示和逻辑芯片制造商们的巨大设备需求,以应对明年可能出现的存储制造商资本支出减少的局面。Nikon日前预测,明年其款的扫描光刻设备将会有强劲需求,用于微芯片和大面积玻...
日本USHIO电机开发出ArF波长的准分子紫外灯 可用于ArF液浸光刻设备
据日经BP社报道,日本USHIO电机开发出了可发出波长为193nm单色光的准分子紫外灯(ExcimerLamp)。该成果为全球首创。无需使用昂贵的激光器即可用于ArF液浸光刻(Lithography)所需要的保护膜、材料。2008年9月开始面向研发
分类:名企新闻 时间:2007/12/4 阅读:385 关键词:紫外灯
日月光订购SUSS MicroTec多套光刻设备 应用于先进封装工艺
据EDN网站报道,半导体设备制造商SUSSMicroTec近日表示,已获得封测大厂日月光的多套光刻设备订单。订单内容包括数套掩膜套准光刻机(MaskAligner)及涂胶烘烤显影光刻模组(LithographyCluster),所订购设备将安装在日
分类:名企新闻 时间:2007/11/26 阅读:771
RohmandHaasElectronicMaterials(罗门哈斯电子材料公司)将在前沿光刻设备方面投资6000万美元,为其用于半导体芯片制造的先进193nm光刻胶以及抗反射涂敷材料研发提供支持。作为此项投资的一部分,RohmandHaasEl
分类:业界要闻 时间:2007/7/2 阅读:3584