应用材料公司于 3 月 1 日向英特尔提供了 VeritySEM 10 系统。“有了这种半导体芯片制造设备，可以简化 EUV 光刻，并以环保的方式降低成本，”它说。 供货前，ASML是全...
12月27日，据韩国媒体报道，存储芯片龙头企业三星计划将在明年扩大其位于韩国平泽市的最大芯片制造厂——P3工厂的产能。据记者了解，该工厂还将根据代工合同增加4纳米芯片...
据外媒Tomshardware报道称，俄罗斯一家研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，可以被用于7纳米制程芯片的生产上。 俄罗斯政府推出了一项国家计划，到2030年开...
分类：行业趋势 时间：2022/10/25 阅读：1868
当地时间7日晚间10点41分左右，日本千叶县西北部发生震级5以上的地震，车用芯片大厂瑞萨那珂工厂部分设备受地震影响停工。 根据瑞萨8日发布的声明，公司总部（东京都）、...
分类：业界动态 时间：2021/10/9 阅读：1107
据苏大维格 透露，大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000，在苏大维格科技集团下线，并投入工业运行。iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。 iGrapher3000此...
据中新网无锡报道，5月14日，半导体制造设备厂商阿斯麦（ASML）与无锡高新区举行了“阿斯麦光刻设备技术服务（无锡）基地签约仪式” ，商定在无锡高新区内升级基地。 据...
分类：业界动态 时间：2020/5/19 阅读：889 关键词：ASML光刻
中芯国际今日宣布签订一份光刻设备批量购买协议。这份批量购买订单价值近4.5亿欧元，是双方战略合作的一部分，它将有助于中芯国际适时提升先进技术制造能力。光刻是在晶圆上通过光刻蚀形成复杂晶体管结构，是半导体制造过程中至关重要的...
分类：名企新闻 时间：2014/10/28 阅读：221
赛斯纯气体公司宣布在中国引入对光刻设备检验的微污染物检验服务
赛斯纯气体有限公司作为一家气体净化技术设备的世界和供应商日前在2009年国际半导体设备与材料展览会上,正式宣布引入微污染物检验服务和CollectTorr取样系统,用于对在中国的光刻和测量设备提供检验。赛斯公司开发的CollectTorr取样
分类：业界要闻 时间：2009/3/26 阅读：237 关键词：污染物
由于半导体产业“停滞的不景气现状”，NikonCorp.(东京)日前表示将减缓其具有侵略性的扩张计划，之前该公司打算扩大193nm浸没式光刻扫描机的产能。Nikon表示将继续在日本Kumagaya建设新的厂房，但会视市场需求而安装设备。扩张Toch
分类：名企新闻 时间：2009/2/9 阅读：810
世界的光刻设备制造商阿斯麦（ASML）18日宣布，由于全球经济下滑，芯片制造设备需求锐减，该公司计划在半年内裁员1000人，占全球员工总数10％以上。总部位于荷兰南部城市费尔德霍芬的阿斯麦公司当天发布声明说，裁员计划主要涉及总部和美...
分类：名企新闻 时间：2008/12/20 阅读：291
欧洲研发机构IMEC首席运营官LucVandenHove表示，IMEC将在2010年上半年制成预投产EUV（极紫外）光刻设备。按照目前的进程，该设备将于2012年在IMEC的300mm生产线上投产。尽管对于EUV在商业制造中的合理性尚存疑问，然而I
分类：行业趋势 时间：2008/10/20 阅读：703
Mapper提供无掩模板光刻设备助台积电研发22nm先进制程
台积电研究发展副总经理孙元成表示，为了能让22nm及更先进制造技术在符合成本效益下完成，台积电将就Mapper的解决方案进行测试，看能否达成此目标。台积电日前与荷兰设备商MapperLithographyBV共同宣布签署协议，依据此协议，Mappe
分类：行业访谈 时间：2008/10/15 阅读：1276
光刻设备商争相发展EUV技术 ASML Canon Nikon公布发展路图
近期举行的SPIE先进光刻技术会议上，ASML、Canon和Nikon相继介绍了他们各自的极紫外（EUV）光刻技术发展路途。SPIE会上，众芯片制造商就以下观点达成了一致：到22纳米及以下节点，必将使用EUV技术。目前为止，对于22纳米节点，除
分类：名企新闻 时间：2008/3/4 阅读：503
浸没式光刻设备驱动ASML销售收入增长 08年持乐观态度欲翻倍
日前，全球光刻设备制造商荷兰ASML发布了2007年财政报告，2007财政年销售收入为56亿美元（38亿欧元），增长了5.9%。同期净收入增长了10.1%，达到了10亿美元。净收益占销售收入的18.1%，而在2006年为17.4%。2007年第
分类：行业趋势 时间：2008/1/21 阅读：691
