EUV光刻

EUV光刻资讯

阿斯麦与荷兰官方表态:中国绝无可能获得最先进EUV光刻机

近期,全球光刻机巨头阿斯麦(ASML)与荷兰政府接连发表声明,强调中国绝无可能获取其最先进的EUV光刻机设备。这一表态迅速引发国际社会广泛关注,折射出全球半导体产业链...

分类:业界要闻 时间:2026/6/22 阅读:8785

美国斥资10亿,颠覆EUV光刻

致力于打造全球最强激光器的美国公司xLight今日宣布,已与美国商务部和国家标准与技术研究院(NIST)签署最终协议,根据《芯片与科学法案》(CHIPS and Science Act)获得1.5亿...

分类:业界动态 时间:2026/6/3 阅读:7877 关键词:EUV光刻

三星电子豪购20台EUV光刻机 加速1c DRAM与HBM4产能布局

全球半导体巨头三星电子近日宣布向ASML订购约20台极紫外(EUV)光刻机,总价值高达34亿美元,展现出其在先进制程领域的雄心壮志。这批设备将主要用于提升10纳米级第六代DRAM...

分类:业界要闻 时间:2026/4/7 阅读:38631

Imec突破性技术:EUV光刻实现晶圆级固态纳米孔制造

2025年12月10日,比利时鲁汶传来重大科技突破——Imec首次成功采用EUV光刻技术在300毫米晶圆上实现了晶圆级固态纳米孔的规模化制造。这项革命性技术将彻底改变生物传感领域的格局,为基因组学和蛋白质组学研究带来全新可能。  纳米孔技...

分类:业界动态 时间:2025/12/10 阅读:12234

ASML世界最先进EUV光刻机只卖了5台!Intel:光刻没那么重要了

光刻机领域的巨头 ASML 向 Intel 交付了首套高数值孔径 High - NA EUV 光刻机,型号为 TWINSCAN EXE:5000。在当时,业界普遍对这款光刻机寄予厚望,认为 High - NA EUV 将...

分类:业界动态 时间:2025/7/5 阅读:627 关键词:EUV光刻机

EUV光刻机,要过七关

如何粉碎一块薄饼?这个问题困扰着阿姆斯特丹纳米光刻高级研究中心 (ARCNL) 的研究员迪翁·恩格尔斯 (Dion Engels)。  这里所说的薄饼指的是被粉碎的锡滴,它在 ASML 的光刻机中每秒被引爆五万次。这会产生等离子体,发射出极紫外 (EUV...

分类:业界动态 时间:2025/6/17 阅读:519 关键词:EUV光刻机

ASML扩招EUV光刻机员工,暴增500%

据日经新闻获悉,荷兰先进芯片制造设备供应商 ASML Holdings 计划在未来几年将其驻日本机器维护人员增加五倍。  ASML 是极紫外 (EUV) 光刻设备的唯一制造商,该设备对于...

分类:业界动态 时间:2025/4/3 阅读:699 关键词:EUV光刻机ASML

EUV光刻机新竞赛

三星电子半导体(DS)部门最早将于今年年底引进High NA极紫外(EUV)设备。除了下一代曝光设备之外,我们还在开发可以检查高数值孔径掩模的设备。看来他们正在积极从事技术...

分类:业界动态 时间:2024/8/19 阅读:670 关键词:EUV光刻机

降低EUV光刻使用成本,设备巨头宣布!

东京电子 推出了 Acrevia,这是一款新型气体团簇光束 (GCB) 系统,专为细化 EUV 光刻创建的图案而设计。该工具采用低损伤表面处理,可用于多种用途,包括减少即将推出的节...

分类:业界动态 时间:2024/7/10 阅读:561 关键词:EUV

EUV光刻机争夺战,正式开打

随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外(EUV)光刻设备重要性日益提升,三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。  此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO,放弃了内部重大活动,飞赴荷兰与ASML洽...

分类:业界动态 时间:2024/5/28 阅读:536 关键词:EUV光刻

EUV光刻技术

一文读懂半导体业的印钞机——EUV光刻机

1965年,戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时,集成电路上可容纳的元器件的数目,约每隔18-24个月便会增加一倍,性能也将提升一倍。  这个不断触碰半导体工艺极限的定律,也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...

基础电子 时间:2018/5/28 阅读:2144