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在半导体制造领域，光刻机技术一直是关键的竞争焦点。近期，ASML 推出的高数值孔径（NA）EUV 光刻机备受关注，但台积电却表现出了谨慎的态度。　　ASML 的这台高数值孔径 E...

分类：业界动态时间：2025/6/9 阅读：221 关键词：台积电

根据媒体报道，作为全球晶圆代工领域的龙头企业，台积电的高层主管透露，公司目前仍在评估何时将荷兰半导体设备大厂阿斯麦（ASML）的高数值孔径极紫外光（High - NA EUV）微影设备应用于未来的制程中。在 5 月 27 日举办的 2025 年度技术...

分类：业界动态时间：2025/5/29 阅读：273 关键词：台积电

据报道，初创公司Lace Lithography AS（挪威卑尔根）正在开发一种光刻技术，该技术使用向表面发射的原子来定义特征，其分辨率超出了极紫外光刻技术的极限。　　Lace Litho ...

分类：名企新闻时间：2025/4/23 阅读：216 关键词：EUV

据日经新闻获悉，荷兰先进芯片制造设备供应商 ASML Holdings 计划在未来几年将其驻日本机器维护人员增加五倍。　　ASML 是极紫外 (EUV) 光刻设备的唯一制造商，该设备对于...

分类：业界动态时间：2025/4/3 阅读：485 关键词：EUV光刻机 ASML

韩国两大半导体巨头三星电子和SK海力士在极紫外（EUV）光刻技术上采取了不同的策略，引起了业界的高度关注。这一发展正值两家公司都致力于增强其在高度动态和竞争激烈的半...

分类：业界动态时间：2024/12/27 阅读：723 关键词：EUV光刻技术三星 SK 海力士

据外媒报道，ASML 正在取消非 ASML 员工为其价值3.8 亿美元的高数值孔径 EUV 机器购买 230 美元乐高套件版本的订单。这款限量版 Twinscan EXE:5000 乐高套件旨在纪念世界上...

分类：名企新闻时间：2024/12/23 阅读：419 关键词：ASML

《日经亚洲》消息人士称,台积电 (TSMC) 将于今年接收 ASML 最先进的芯片制造机。高数值孔径极紫外（High NA EUV）机器据说每台成本超过 3.5 亿美元，将允许芯片制造商打印...

分类：业界动态时间：2024/11/4 阅读：446 关键词：台积电

半导体制造需要 100 多种不同类型的工艺工具，其中极紫外 (EUV) 光刻工具是最昂贵且耗能最高的。EUV 工具代表了该行业的最新进展，它能够在一平方英寸的硅片中塞入更多晶体...

分类：业界动态时间：2024/11/1 阅读：635 关键词：EUV 光刻机

据 TechNews 报道，ASML 首席执行官 Christophe Fouquet 和英特尔执行官 Mark Phillips 表示，英特尔已经完成了用于 14A 及后续工艺的第二台高数值孔径 EUV 机器的组装。　...

分类：新品快报时间：2024/10/15 阅读：327 关键词：英特尔

台积电在采用 EUV 光刻工具进行量产方面领先于英特尔，但在高 NA EUV 系统方面，该公司似乎落后于其美国竞争对手。据《电子时报》和《联合报》报道，英特尔已将其 ASML 高 ...

分类：业界动态时间：2024/9/11 阅读：309 关键词：台积电

1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。　　这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...

基础电子时间：2018/5/28 阅读：1804