EUV光刻机新竞赛

三星电子半导体（DS）部门最早将于今年年底引进High NA极紫外（EUV）设备。除了下一代曝光设备之外，我们还在开发可以检查高数值孔径掩模的设备。看来他们正在积极从事技术...

分类：业界动态 时间：2024/8/19 阅读：350 关键词：EUV光刻机

降低EUV光刻使用成本，设备巨头宣布！

东京电子 推出了 Acrevia，这是一款新型气体团簇光束 (GCB) 系统，专为细化 EUV 光刻创建的图案而设计。该工具采用低损伤表面处理，可用于多种用途，包括减少即将推出的节...

分类：业界动态 时间：2024/7/10 阅读：286 关键词：EUV

ASML正在考虑0.77NA的EUV光刻机

从相关报道看来，Hyper-NA EUV 和高生产力工具是 ASML 未来十年的主要目标。　　ASML 荣誉首席技术官 Martin van den Brink 分享了通用 EUV 平台的“愿景”，其中可能包括 ...

分类：业界动态 时间：2024/5/23 阅读：367 关键词：ASML

三星联手蔡司，加码EUV光刻机

三星电子正在深化与蔡司集团在下一代EUV和芯片技术方面的合作，蔡司集团是全球唯一的极紫外（EUV）光系统供应商ASML Holding NV的光学系统唯一供应商。　　三星执行董事长...

分类：业界动态 时间：2024/4/29 阅读：623 关键词：三星

高数值孔径EUV光刻机，重要里程碑

据路透社报道，ASML 和英特尔本周表示，后者通过打开光源并使光到达晶圆上的光刻胶，利用 ASML 的高数值孔径光刻系统实现了一个重要的里程碑。这表明光源和镜子已正确对齐...

分类：业界动态 时间：2024/2/29 阅读：331 关键词：光刻机

High NA EUV光刻机价格曝光，量产万事俱备

本周，在 2024 年先进光刻 + 图案化会议上，全球领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心 IMEC 将展示 EUV 工艺、掩模和为实现高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻而准...

分类：业界动态 时间：2024/2/27 阅读：434 关键词：光刻机

首台High-NA EUV光刻机，正式交货

据相关报道，ASML Holding NV表示，它开始向英特尔公司运送其第一台最新芯片制造机的主要部件。　　据不愿透露姓名的知情人士透露，这套名为高数值孔径极紫外线的最先进系...

分类：业界动态 时间：2023/12/22 阅读：615

DNP开发出用于3纳米EUV光刻的光掩膜工艺

Dai Nippon Printing Co., Ltd. (DNP) (TOKYO: 7912)成功开发出一种光掩膜制造工艺，能够适应3纳米（10-9米）光刻工艺，以支持半导体制造的尖端工艺——极紫外(EUV)光刻。...

分类：新品快报 时间：2023/12/13 阅读：348 关键词：EUV光刻

有关EUV光刻，三星和ASML签订万亿协议

据韩国贸易、工业和能源部周二称，三星电子和 ASML 同意共同投资 1 万亿韩元（7.62 亿美元）在韩国建设一座研究工厂，以开发使用极紫外 (EUV) 设备的尖端半导体制造技术。...

分类：业界动态 时间：2023/12/13 阅读：463 关键词：EUV光刻