应用材料公司于 3 月 1 日向英特尔提供了 VeritySEM 10 系统。“有了这种半导体芯片制造设备，可以简化 EUV 光刻，并以环保的方式降低成本，”它说。 供货前，ASML是全...
12月27日，据韩国媒体报道，存储芯片龙头企业三星计划将在明年扩大其位于韩国平泽市的最大芯片制造厂——P3工厂的产能。据记者了解，该工厂还将根据代工合同增加4纳米芯片...
据外媒Tomshardware报道称，俄罗斯一家研究单位正在研究开发自己的半导体微影光刻设备，可以被用于7纳米制程芯片的生产上。 俄罗斯政府推出了一项国家计划，到2030年开...
分类：行业趋势 时间：2022/10/25 阅读：1890
当地时间7日晚间10点41分左右，日本千叶县西北部发生震级5以上的地震，车用芯片大厂瑞萨那珂工厂部分设备受地震影响停工。 根据瑞萨8日发布的声明，公司总部（东京都）、...
分类：业界动态 时间：2021/10/9 阅读：1114
据苏大维格 透露，大型紫外3D直写光刻设备iGrapher3000，在苏大维格科技集团下线，并投入工业运行。iGrapher3000主要用于大基板上的微纳结构形貌的3D光刻，是新颖材料、先进光电子器件的设计、研发和制造的全新平台。 iGrapher3000此...
据中新网无锡报道，5月14日，半导体制造设备厂商阿斯麦（ASML）与无锡高新区举行了“阿斯麦光刻设备技术服务（无锡）基地签约仪式” ，商定在无锡高新区内升级基地。 据...
分类：业界动态 时间：2020/5/19 阅读：914 关键词：ASML光刻
中芯国际今日宣布签订一份光刻设备批量购买协议。这份批量购买订单价值近4.5亿欧元，是双方战略合作的一部分，它将有助于中芯国际适时提升先进技术制造能力。光刻是在晶圆上通过光刻蚀形成复杂晶体管结构，是半导体制造过程中至关重要的...
分类：名企新闻 时间：2014/10/28 阅读：229
赛斯纯气体公司宣布在中国引入对光刻设备检验的微污染物检验服务
赛斯纯气体有限公司作为一家气体净化技术设备的世界和供应商日前在2009年国际半导体设备与材料展览会上,正式宣布引入微污染物检验服务和CollectTorr取样系统,用于对在中国的光刻和测量设备提供检验。赛斯公司开发的CollectTorr取样
分类：业界要闻 时间：2009/3/26 阅读：252 关键词：污染物
由于半导体产业“停滞的不景气现状”，NikonCorp.(东京)日前表示将减缓其具有侵略性的扩张计划，之前该公司打算扩大193nm浸没式光刻扫描机的产能。Nikon表示将继续在日本Kumagaya建设新的厂房，但会视市场需求而安装设备。扩张Toch
分类：名企新闻 时间：2009/2/9 阅读：829
Maskless Lithography推出大批量PCB生产用直写光刻设备
MasklessLithography公司近日首次公开推出全新的可提高印制电路板（PCB）生产门槛的直写数字成像技术。MasklessLithography是硅谷一家由一群行业资深人士领导的新创企业。这种MLI-2027直写光刻系统首次在业内同时实
新品速递 时间：2010/4/9 阅读：4249
