美国提升芯片产业影响力,打破ASML对EUV光刻设备的垄断

类别:业界动态  出处:网络整理  发布于:2023-03-03 11:17:41 | 378 次阅读

    应用材料公司于 3 月 1 日向英特尔提供了 VeritySEM 10 系统。“有了这种半导体芯片制造设备,可以简化 EUV 光刻,并以环保的方式降低成本,”它说。
    供货前,ASML是全球一家EUV光刻设备供应商。这家荷兰公司设备的特点是需要进行双重构图,即对基板进行双重蚀刻,这需要增加水和电的使用量以及更长的过程。
    Applied Materials 的设备基于单一图案化。“假设每月使用 VeritySEM 10 处理 100,000 片晶圆,通过每片晶圆节省 50 美元和 15 千瓦的电力,可以节省 2.5 亿美元的成本,”它解释说,并补充说,“每片晶圆的用水量和二氧化碳排放量分别减少 15 升和 0.35 千克。”
    据业内人士透露,ASML的垄断即将结束,美国在各种半导体相关行业的存在感将增加。“美国正在越来越多地将这些行业内部化,包括材料、零部件和设备以及设计和制造,以提高其在该行业的影响力,”其中一位人士表示。

关键词:芯片EUV光刻

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