半导体制程(洁净室及晶圆制造)

半导体制程--------------------------------------------------------------------------------微机电制作技术，尤其是最大宗以硅半导体为基础的微细加工技术(silicon-b

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半导体制程(氧化设备)

三、半导体制程设备半导体制程概分为三类：(1)薄膜成长，(2)微影罩幕，(3)蚀刻成型。设备也跟着分为四类：(a)高温炉管，(b)微影机台，(c)化学清洗蚀刻台，(d)电浆真空腔室。其中(a)~(c)机台依序对应(1)~(3)制程，而新近发展的第(

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