应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM(扫描电子显微镜)SEMVision™G4系统，它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVisionG4系统的关键在于全新的SEM聚焦
新品速递 时间：2007/12/20 阅读：1635
应用材料公司推出具有业界最高生产力的DUV(深紫外)亮场硅片检测工具UVision®3系统，它能满足45纳米前端制程和浸没式光刻对于关键缺陷检测灵敏度的要求。这个新一代的系统为应用材料公司突破性的UVision技术带来了重要的进步，它将扫...
新品速递 时间：2007/11/29 阅读：2021
应用材料公司推出Centura? Carina? Etch系...
近日，应用材料公司推出Centura? Carina? Etch系统用于世界上晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术，它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓，是目前具有上述能力并可...
新品速递 时间：2007/11/27 阅读：1478
近日，应用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等离子体强化化学气相沉积) 系统，它能实现在45纳米及更小技术节点的器件上生产速度更快的晶体管所需要达到的应力水平，是应力工程技术(Strained engineering tech...
新品速递 时间：2007/9/29 阅读：1719
应用材料公司推出Centura Carina Etch系统用于世界上晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术，它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓，是目前具有上述能力并可以用于生...
新品速递 时间：2007/9/28 阅读：2242
