ZN
赛维思
设备用途 本试验设备模拟由阳光、雨水、露水引起的破坏,通过将被测材料暴露于受控高温下光照与水份的交变循环中,对材料进行测试。它用紫外线灯管模拟阳光的辐射作用,用凝结水和喷水来模拟露水和雨水。*几天或几个...
电话:0519-86252625
手机:13961195877
ZP
南京泰斯特
品牌:南京泰斯特 型号:ZP 类型:紫外老化箱 材质:不锈钢板 温度范围:室温+10℃~+80℃(℃) 功率:5KW(W) 工作室尺寸:450×1170×500(mm) 电源:380V 适用范围:日晒、气候环境 紫外灯耐气候试验箱...
电话:025-84353646
手机:13912998027
T5/T8
THOTH索思
THOTH索思防紫外线灯管也称无紫外线灯管,抗紫外线灯管,抗UV灯管,属于低压荧光灯,采用进口三基色特殊荧光粉制造,能有效的抑制灯管中紫外线的释放,广泛应用于不需要紫外线的场所,目前主要分为白光和黄光两大类...
电话:025-52251099
品牌:利德 型号:*-100P 测量范围:局部检测 测量:在380mm距离下中心的稳定紫外强度达1000µW/cm² 尺寸:180*160*156(mm) 重量:1.1(kg) *-100P*度紫外线灯*-100P*度紫外线灯的特...
电话:0515-82378568
品牌:日洪 型号:ZN-P 类型:紫外老化箱 温度范围:50℃~95℃(℃) 工作室尺寸:450×1170×500(mm) 电源:220本试验设备模拟由阳光、雨水、露水引起的破坏,通过将被测材料暴露于受控高温...
电话:510-83730602
品牌:欧帝斯 型号:ZW-系列 类型:紫外老化箱产品用途 该系列产品适用于非金属材料的耐阳光和人工光源的老化试验。箱体结构特点 箱体采用数控机床加工成型,造型美观大方,箱盖为双向翻盖式,操作简便。箱体内胆采用*...
电话:0512-65723722
品牌:南京便诊 型号:N2产品主要用于非金属的材料、*材料(油漆、涂料、橡胶、塑料等)在模拟气候下的老化试验。温度范围:RT+10-70℃湿度范围:75%--98%RH 控温控湿方式:平衡式调温调湿(BTHC)试样与灯管中心距: 55&...
电话:025-82083465
ZN-P
环科仪器
供应紫外光耐气候试验箱,紫外灯加速老化试验箱,紫外线老化试验箱,光照老化试验箱 紫外光耐气候试验箱参照标准 本紫外光耐气候试验箱适用于多种工业产品的性能*性试验,参照GB/T14522-93《中华人民共和国*标准--机...
电话:025-84199144
手机:15951850825
品牌:双华 型号:ZN-P 工作室尺寸:450×1170×500(mm) 温度范围:50~95(℃) 温度波动度:&plu*n;0.5℃(℃) 温度均匀度:&plu*n;2℃(%) 控温方式:LED数显结构特点: ...
电话:519-82535288
结构特点:工作室尺寸: 450×1170×500(D×W×H)(mm)内胆材料:BUS3040B不锈钢板外胆材料:铝合金板荧光灯型号:UV-B 数量:8支试样架:框式基架和衬垫板由铝合金材料制成黑板...
电话:0510-83271282
品牌:环科 型号:ZN型 类型:UV紫外线灯管本紫外光加速耐候试验机适用于多种工业产品的性能*性试验,参照GB/T14522-93《中华人民共和国*标准--机械工业产品用塑料、涂料、橡胶材料—人工气候加速试验方法...
电话:025-84199144
品牌:贤臣 型号:US 材质:铝合金板 温度范围:50~95(℃) 工作室尺寸:450×1170×500(D×W×H(mm)紫外灯耐气候试验箱结构特点:工作室尺寸:450&ti...
电话:0510-82483464
品牌:爱思普瑞 型号:UL-1000 工作室尺寸:1500*1200*600(mm) 温度范围:RT~+95℃(℃) 温度波动度:≤&plu*n;0.5℃(℃) 温度均匀度:≤2℃(%)紫外灯耐气候试验箱UV Lamp Chamber规...
电话:0510-83761898
品牌:北京六一 型号:WD-9403E 产品别名:电泳仪 产品用途:使用方便,用于观察泳动中的核酸电泳样品或洒落的荧光染料。。 重量:5(Kg) 外形尺寸:340×54×90mm 类型:电泳电源基本参数:外...
电话:025-84446568
品牌:泰诺 型号:ZN或TZN-系列 材质:外壳冷轧钢板喷塑,内胆不锈钢板。 温度范围:≤70℃ (灯点亮时)或0、-20、-35℃~100℃(灯点亮)(℃) 测量范围:同上 工作室尺寸:500×500&tim...
电话:0510-85521353
据日经BP社报道,日本USHIO电机开发出了可发出波长为193nm单色光的准分子紫外灯(ExcimerLamp)。该成果为全球首创。无需使用昂贵的激光器即可用于ArF液浸光刻(Lithography)所需要的保护膜、材料。2008年9月开始面向研发