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IC CHINA 2013展商巡礼:盛美半导体

第11届中国国际半导体博览会暨高峰论坛(简称2013ICC)将于2013年11月13-15日在上海新国际博览中心隆重开幕。届时,盛美半导体设备(上海)有限公司(简称ACM)倾力打造的UltraCSAPS兆声波单片清洗设备和UltraSFP-TSV无

分类:名企新闻 时间:2013/10/17 阅读:95 关键词:CHINA 半导体 

盛美发布12英寸单片兆声波清洗设备工艺

盛美半导体(上海)有限公司日前在中国半导体国际展上发表了十二英寸单片兆声波清洗设备的最新工艺,本工艺用于45nm技术及以下节点的十二英寸高端硅片清洗。盛美独家具有自主知识产权的清洗技术可以去除数十纳米超微小颗粒,同时使硅片表...

分类:新品快报 时间:2011/3/22 阅读:771

盛美12英寸单片清洗设备首发仪式在张江高科技园区举行

6月23日,盛美半导体12英寸单片清洗设备进入世界知名芯片制造厂商首发仪式在张江高科技园区举行,盛美半导体设备公司首席执行官王晖博士、中国半导体行业协会徐小田秘书长等参加了首发仪式。十二英寸单片兆声波清洗设备用于65nm技术节点...

分类:名企新闻 时间:2009/7/2 阅读:2759 关键词:高科技 

盛美半导体设备开发出12英寸单片兆声波清洗设备

3月17日,新成立的盛美半导体(上海)有限公司在中国半导体国际展上展出了十二英寸单片兆声波清洗设备,本设备用于65nm技术节点以下的十二英寸高端硅片清洗。盛美独家具有自主知识产权技术可使兆声波能量在12英寸硅片上非常均匀地分布(...

分类:名企新闻 时间:2009/3/19 阅读:665 关键词:半导体 

盛美半导体开发出300mm单晶圆兆声清洗设备

新成立的盛美半导体(上海)有限公司今天在SEMICONChina2009上展出了十二英寸单片兆声波清洗设备,本设备用于65nm技术节点以下的十二英寸高端硅片清洗。盛美独家具有自主知识产权技术可使兆声波能量在12英寸硅片上非常均匀地分布(非均匀...

分类:名企新闻 时间:2009/3/18 阅读:50 关键词:半导体 

盛美半导体落户张江 芯片设备垄断有望打破

盛美半导体设备(上海)有限公司落户张江高科技园区,这家由海归人员创立的企业已经掌握了未来芯片生产所需的新一代生产技术,应用该技术的样机已被Intel和美国LSILogic公司采购。独家技术攻克未来芯片制造瓶颈盛美创始人、首席执行官王...

分类:行业趋势 时间:2008/1/30 阅读:1901 关键词:半导体 

盛美突破CMP瓶颈,引领无应力抛光新潮流

盛美半导体设备(上海)有限公司在上海张江高科技园召开了隆重的开幕典礼。据悉,这家由海归人员创立的企业已经掌握了未来芯片生产所需的新一代生产技术,暨晶圆无应力抛光技术,采用该技术的样机已被Intel和美国LSILogic公司所采购。据...

分类:行业趋势 时间:2008/1/25 阅读:560

盛美突破CMP瓶颈 引领无应力抛光新潮流

盛美半导体设备(上海)有限公司在上海张江高科技园召开了隆重的开幕典礼。据悉,这家由海归人员创立的企业已经掌握了未来芯片生产所需的新一代生产技术,暨晶圆无应力抛光技术,采用该技术的样机已被Intel和美国LSILogic公司所采购。据...

分类:行业趋势 时间:2008/1/24 阅读:542

盛美半导体公司落户张江

发达国家在芯片生产设备研发制造领域的国际垄断有望在近期被中国企业打破。记者昨天从盛美半导体设备(上海)有限公司落户张江庆典仪式上获悉,这家由海归人员创立的企业已经掌握了未来芯片生产所需的新一代生产技术,应用该技术的样机已被...

分类:名企新闻 时间:2008/1/24 阅读:950 关键词:半导体 

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