(电子科技大学 微电子与固体电子学院, 成都 610054)摘 要：主要针对光刻对准特性，从单项工艺和工艺集成的角度，分析了影响光刻对准的各个主要因素，主要包括对准标记、工艺层、隔离技术等，提出了一些改善光刻对准效果的方法。 关键词：...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：2109
随着离子注入技术的发展，它的应用也越来越广泛，尤其是在集成电路中的应用发展最快。由于离子注入技术具有很好可控性和重复性，这样设计者就可根据电路或器件参数的要求，设计出理想的杂质分布，并用离子注入技术实现这种分布。离子注入...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：1730
半导体工业目前正处在一个的变革时期。无节制地追随摩尔定律的步伐已经带来了一些物理与经济方面的挑战，而且这些挑战常常似乎是难以克服的。硅工艺线宽(甚至这些连线之间的间隔)都已经小于光刻用的光波长。此外，一旦完成光刻，材料问题...
基础电子 时间：2007/4/20 阅读：101
