Lasertec开发出液晶、印刷底板均可使用的中大型光掩膜缺陷检查设备
日本Lasertec开发出了可以支持各种CAD（ComputerAidedDesign）数据格式的中大型光掩膜图形缺陷检查设备“LI34/LI44”。该设备以支持光掩膜数据库格式“MEBES”的检查设备“51MD”系列的功能为基础，配备了可利用多种
分类：新品快报 时间：2006/10/18 阅读：6901 关键词：检查设备
中国上海─2006年9月4日─MicronicLaserSystemsAB（瑞典斯德哥尔摩证交所“Olist”股票代号MICR）今天针对中国的光掩膜制造商在上海金茂君悦大酒店举行技术研讨会，为与会者提供的图形描绘技术，并详细介绍Micronic
分类：名企新闻 时间：2006/9/27 阅读：252
