三星宣布7nm LPP工艺进入量产,Intel表示10nm进展良好明年到位
在今天举行的Samsung Tech Day上,三星宣布7LPP工艺进入量产,并表示基于EUV光刻技术的7LPP工艺对比现有的10nm FinFET工艺,可以提高20%性能、降低50%功耗、提升40%面积能效。 三星电子的代工销售和营销团队执行副总裁Charlie Bae...
三星宣布7nm LPP量产!基于EUV光刻技术、性能增加20%
三星官方宣布,已经开始进行7nm LPP(Low Power Plus)工艺芯片的量产工作。 据悉,三星的7nm LPP采用EUV光刻,机器采购自荷兰ASML(阿斯麦),型号为双工件台NXE:340...
先来说下格芯技术层面的考量。首先肯定的是,7 nm LP工艺目前被看作是摩尔定律下的半导体工艺一个转折点。众所周知,在制程推进到10nm以内后,研发难度会越来越大,这点从Intel的10nm从2016年跳票到2019年就可以看出。此前,得益于三星背...