今日，三星宣布已开始量产基于极紫外光(EUV)技术的14纳米DRAM芯片。继去年3月推出首款EUVDRAM后，此次三星将使用EUV的层数增加至5层，为其DDR5解决方案提供当下更为优质、...
分类：名企新闻 时间：2021/10/13 阅读：1316
摩尔定律除了每18～24个月可让晶片中电晶体数量增倍的技术推进，还包含了经济层面上的益处。事实上，过去20年因为摩尔定律的推进顺利，晶片的单位制造成本可以逐年降低，并造就了个人电脑的普及，以及智慧型手机的人手数机的情况。若半导...
分类：业界动态 时间：2019/2/26 阅读：489 关键词：EUV技术
英特尔公司正在计划将目前的193nm浸入式微影技术扩展到14nm逻辑节点，此一计划预计在2013下半年实现。同时，这家芯片业巨头也希望能在2015年下半年于10nm逻辑节点使用超紫外光(EUV)微影技术进行生产。但英特尔微影技术总监SamSivak
目前次世代微影技术发展仍尚未有主流出现，而身为深紫外光(EUV)阵营主要推手之一的比利时微电子研究中心(IMEC)总裁LucVandenhove指出，EUV技术最快于2014年可望进入量产，而应用存储器制程又将早于逻辑制程，他也指出，无光罩多重电子
分类：业界要闻 时间：2010/10/25 阅读：415
光刻设备商争相发展EUV技术 ASML Canon Nikon公布发展路图
近期举行的SPIE先进光刻技术会议上，ASML、Canon和Nikon相继介绍了他们各自的极紫外（EUV）光刻技术发展路途。SPIE会上，众芯片制造商就以下观点达成了一致：到22纳米及以下节点，必将使用EUV技术。目前为止，对于22纳米节点，除
分类：名企新闻 时间：2008/3/4 阅读：482
