应用材料财务总监表示，由于中国面临的挑战以及其他客户需求的波动，预计本季度利润和收入将下降。 该公司首席财务官布莱斯希尔 ( Brice Hill)在接受采访时表示，这家半导体设备制造商预计，在经历了两年的快速扩张之后，中国市场的增...
分类：名企新闻 时间：2025/8/15 阅读：421 关键词：应用材料
北京屹唐半导体科技股份有限公司（以下简称“公司”、“原告”）认为，应用材料公司（APPLIED MATERIALS, INC.）（以下简称“应用材料公司”、“被告”）非法获取并使用了...
分类：名企新闻 时间：2025/8/14 阅读：568 关键词：屹唐
应用材料 Q2 业绩亮眼：营收 71 亿美元，同比增长 7%
应用材料公司于 5 月 15 日公布了截至 2025 年 4 月 27 日的第二季度业绩，展现出了强劲的发展态势。 二季度业绩亮眼，多指标实现增长 报告显示，应用材料第二季度营收达到 71 亿美元，与去年同期相比增长了 7%。这一增长体现了公...
分类：名企新闻 时间：2025/5/17 阅读：538 关键词：应用材料
如果说半导体是信息技术与计算产业的底座，那材料和设备就是半导体产业的基石。随着全球涌现出许多令人兴奋的全新应用，科技产业迫切需要更加节能的半导体芯片，而这一目标...
分类：业界动态 时间：2025/3/25 阅读：380 关键词：半导体
据彭博社报道，应用材料公司 (Applied Materials Inc.)日前表示，美国司法部已要求其提供有关申请联邦拨款的相关资料。这意味着，美国政府将对该公司营运状况展开调查。 ...
分类：业界动态 时间：2024/8/30 阅读：519 关键词：半导体
应用材料公司公布2024年第三季度（截至2024年7月28日）财务报告，称该季度应用材料营收同比增长5%达67.8亿美元，这意味着应用材料今年上半年总营收以134.3亿美元超越ASML，...
半导体行业从军事应用起步，一直是所有社会发展的基础，一切呈指数级增长的事物都依赖于半导体。 这不是一个温和的行业。超过两年的产品就卖不出去，要么供应太多，要么...
分类：业界动态 时间：2024/5/16 阅读：992 关键词：半导体
据San Francisco Chronicle报道，知情人士称，由于缺乏政府资金，美国最大的半导体设备制造商应用材料公司可能推迟或放弃在硅谷建设40亿美元研发设施的计划。 另一位熟...
分类：业界动态 时间：2024/4/11 阅读：375 关键词：应用材料
综合彭博社和Tom's Hardware报道，美国最大的半导体制造设备供应商应用材料公司披露，包括美国证券交易委员会和美国马萨诸塞州地区检察官办公室在内的多个机构向其发出了"...
分类：业界动态 时间：2024/3/1 阅读：438 关键词：应用材料
应用材料发布2024财年第一财季财报。本财季，应用材料营收67.07亿美元，同比、环比基本持平，达到了业绩指引目标的上限。净收入20.19亿美元，同比增长17.58%，环比基本持平...
分类：业界动态 时间：2024/2/18 阅读：459 关键词：内存
应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM(扫描电子显微镜)SEMVision™G4系统，它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVisionG4系统的关键在于全新的SEM聚焦
新品速递 时间：2007/12/20 阅读：1784
应用材料公司平面显示事业部AKT近日宣布推出第一批在全球最大的8.5代（2.2米x~2.5米）玻璃基板上制造大尺寸LCD电视屏幕的平面显示器生产系统。全新设计的AKT-55KEBT(电子束检测)，AKT-55KPECVD(等离子加强化学气相沉积)和
新品速递 时间：2007/12/6 阅读：1741
应用材料公司推出具有业界最高生产力的DUV(深紫外)亮场硅片检测工具UVision®3系统，它能满足45纳米前端制程和浸没式光刻对于关键缺陷检测灵敏度的要求。这个新一代的系统为应用材料公司突破性的UVision技术带来了重要的进步，它将扫...
新品速递 时间：2007/11/29 阅读：2185
应用材料公司推出Centura? Carina? Etch系...
近日，应用材料公司推出Centura? Carina? Etch系统用于世界上晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术，它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓，是目前具有上述能力并可...
新品速递 时间：2007/11/27 阅读：1618
近日，应用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等离子体强化化学气相沉积) 系统，它能实现在45纳米及更小技术节点的器件上生产速度更快的晶体管所需要达到的应力水平，是应力工程技术(Strained engineering tech...
新品速递 时间：2007/9/29 阅读：1908
应用材料公司推出Centura Carina Etch系统用于世界上晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术，它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓，是目前具有上述能力并可以用于生...
新品速递 时间：2007/9/28 阅读：2393
