应用材料

应用材料资讯

传应用材料或搁置加州研发设施建设

据San Francisco Chronicle报道,知情人士称,由于缺乏政府资金,美国最大的半导体设备制造商应用材料公司可能推迟或放弃在硅谷建设40亿美元研发设施的计划。  另一位熟...

分类:业界动态 时间:2024/4/11 阅读:261 关键词:应用材料

消息称美国正在调查应用材料中国业务

综合彭博社和Tom's Hardware报道,美国最大的半导体制造设备供应商应用材料公司披露,包括美国证券交易委员会和美国马萨诸塞州地区检察官办公室在内的多个机构向其发出了"...

分类:业界动态 时间:2024/3/1 阅读:307 关键词:应用材料

应用材料最新财报:高带宽内存和GAA将带来可观增量

应用材料发布2024财年第一财季财报。本财季,应用材料营收67.07亿美元,同比、环比基本持平,达到了业绩指引目标的上限。净收入20.19亿美元,同比增长17.58%,环比基本持平...

分类:业界动态 时间:2024/2/18 阅读:281 关键词:内存

ASML将取代应用材料公司AMAT成为最大设备商

根据seekingalpha作者Robert Castellano题为《全球半导体设备:市场、市场份额和市场预测》的分析报告, ASML将在 2023 年取代应用材料公司(AMAT)成为最大的 WFE 半导体...

分类:业界动态 时间:2023/9/19 阅读:678 关键词:ASML

应用材料公司副总裁马克斯.麦丹尼尔:良率提升和成本控制需要显示产业链通力合作

由四川省人民政府、工业和信息化部主办的2023世界显示产业大会在四川省成都市举行。在大会开幕演讲中,应用材料公司副总裁、显示及柔性技术事业群首席营销官马克斯?麦丹尼...

分类:行业访谈 时间:2023/9/8 阅读:594 关键词:OLED

应用材料Q3财报:营收64.3亿美元,同比下降1%

半导体设备厂商应用材料发布了2023财年第三季度财务报告(截至2023年7月30日)。财报显示,应用材料第三财季营收为64.3亿美元,同比下降1%,高于此前分析师预期的61.6亿美...

分类:业界动态 时间:2023/8/22 阅读:407 关键词:应用材料

应用材料新机器,挑战ASML

据报道,应用材料公司已开始销售一种芯片制造机,旨在减少该行业对 ASML Holding 的依赖,并以更便宜的价格生产能够处理人工智能 (AI) 任务的超强大半导体。 该公司的 C...

分类:业界动态 时间:2023/3/1 阅读:418 关键词:ASML

应用材料第一季度净销售额67.39亿美元,同比增长7%

应用材料(NASDAQ:AMAT)公布了截至2023年1月29日的2023年第一季度的业绩。2023年第一季度业绩,净销售额67.39亿美元,同比增长7%,营业利润率29.2%. 应用材料总裁兼首...

分类:名企新闻 时间:2023/2/17 阅读:281 关键词: 应用材料

美国半导体设备大厂应用材料将在韩国设立研发中心

继不久前美国总统拜登访问韩国,宣布与韩国加强半导体产业合作之后,近日,据BusinessKorea报导,全球最大半导体设备供应商美国应用材料(AppliedMaterials)将于本月宣布...

分类:业界动态 时间:2022/6/14 阅读:1169

应用材料发布Q2报:中国业务贡献33%业绩

全球知名半导体设备供应商之一——美国应用材料公司(AppliedMaterials)在当地时间的周五(21日)发布了2021年Q2业绩报。 财报显示,该公司在2021年第二季度营...

分类:业界动态 时间:2021/5/25 阅读:2687

应用材料技术

应用材料公司推出全新SEMVision G4缺陷再检测系统

应用材料公司推出最先进的缺陷再检测SEM(扫描电子显微镜)SEMVision™G4系统,它将应用材料公司非常成功的SEMVision系统的技术和生产能力提升到45纳米及更小的技术节点。SEMVisionG4系统的关键在于全新的SEM聚焦

新品速递 时间:2007/12/20 阅读:1625

应用材料为8.5代平面显示器制造商推出高产能生产系统

应用材料公司平面显示事业部AKT近日宣布推出第一批在全球最大的8.5代(2.2米x~2.5米)玻璃基板上制造大尺寸LCD电视屏幕的平面显示器生产系统。全新设计的AKT-55KEBT(电子束检测),AKT-55KPECVD(等离子加强化学气相沉积)和

新品速递 时间:2007/12/6 阅读:1590

应用材料公司推出亮场硅片检测工具UVision3系统

应用材料公司推出具有业界最高生产力的DUV(深紫外)亮场硅片检测工具UVision®3系统,它能满足45纳米前端制程和浸没式光刻对于关键缺陷检测灵敏度的要求。这个新一代的系统为应用材料公司突破性的UVision技术带来了重要的进步,它将扫...

新品速递 时间:2007/11/29 阅读:2016

应用材料公司推出Centura? Carina? Etch系...

近日,应用材料公司推出Centura? Carina? Etch系统用于世界上晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术,它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓,是目前具有上述能力并可...

新品速递 时间:2007/11/27 阅读:1477

应用材料公司推出等离子体强化化学气相沉积系统

近日,应用材料公司宣布推出Applied Producer® Celera™ PECVD(等离子体强化化学气相沉积) 系统,它能实现在45纳米及更小技术节点的器件上生产速度更快的晶体管所需要达到的应力水平,是应力工程技术(Strained engineering tech...

新品速递 时间:2007/9/29 阅读:1715

应用材料公司推出Centura Carina Etch系统

应用材料公司推出Centura Carina Etch系统用于世界上晶体管的刻蚀。运用创新的高温技术,它能提供45纳米及更小技术节点上采用高K介电常数/金属栅极(HK/MG)的逻辑和存储器件工艺扩展所必需的材料刻蚀轮廓,是目前具有上述能力并可以用于生...

新品速递 时间:2007/9/28 阅读:2237

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