光刻胶是半导体芯片和平板显示器加工领域的重要配套材料。永光化学在苏州设立生产基地，就近服务中国大陆客户，为中国大陆半导体及显示器件行业提供了有力的支撑。此外，永光化学的负性光刻胶也独具特色，可服务于LED芯片制造的特殊工艺。

　　近年来，中国大陆的半导体产业发展十分迅速，预计到2010年，大中华地区将提供信息产业所需集成电路数量的70%，所以中国大陆对于的半导体材料供应商而言是兵家必争之地。

　　因地制宜拓展市场领域

　　永光化学总部位于我国台湾地区，其电子化学事业处主要以我国台湾地区为研发基地，在光刻胶领域取得了令人瞩目的业绩。台湾地区是集成电路代工的重镇，这使永光得以就近与的集成电路制造厂商进行合作，可以与客户进行顺畅的沟通，同时，还可以到客户的生产线上进行产品测试。

　　永光(苏州)光电材料有限公司销售副总经理孙哲仁在接受《中国电子报》记者采访时表示，在中国大陆，永光化学针对大陆不同地区的特点采取了不同的发展策略。由于华东地区是中国大陆集成电路制造业的主要聚集地，因此永光以上海为中心，瞄准高阶工艺的需求，和客户共同开发适用的优势产品；在华南市场，由于该区客户的特色为作业弹性较高，机动性强，因此在市场开拓上倾向于成熟度高的光刻胶产品，主要满足客户的近期需求，以便能迅速实现量产。

　　材料供应与产业聚集度息息相关，对于一个材料供货商而言，设厂需要投入巨额的资金，更要担心技术外流。所以，在市场不够大或产业技术未成熟的地区，材料供货商往往是先成立销售点来服务客户，等到能达到经济规模才考虑在当地设厂。但从半导体业者的角度看，如果本地没有良好的材料供货商，就不能生产出具有成本优势的产品来扩大市场。孙哲仁表示，以中国幅员之辽阔，如果原材料制造基地远离半导体芯片生产基地，将大幅度提高原材料的运输成本。正是由于认识到华东地区是中国大陆半导体产业的主要聚集地，永光化学才会把生产基地设在苏州，以便就近服务客户。当然，永光化学也不会放弃对中、西部地区业务的拓展，永光期待与这些客户充分合作，克服运输、库存等方面的困难。

　　另据孙哲仁透露，位于苏州工业园区的永光(苏州)光电材料有限公司一期工厂已经开始向客户提供数码打印机墨水、显影液、单晶硅的抛光液和CD-R染料等四大类产品，而苏州工厂的二期工程目前也正在建设中。他表示，预计永光苏州生产基地将在今年年底实现盈亏平衡。

　　负性光刻胶服务LED特殊工艺

　　目前，G线光刻胶在永光的光刻胶产品中占据主导地位，而I线光刻胶也已经投入生产。据孙哲仁预测，在未来两三年内，I线光刻胶将逐渐成为主流。在更高端的产品方面，永光的DUV(深紫外)光刻胶也已经通过了8英寸和12英寸晶圆生产线的验证。此外，环氧树脂封装胶也是永光化学的另一类重要产品，此类产品应用在半导体芯片封装产业中。

　　永光化学的光刻胶产品还应用于LED(发光二极管)芯片的制造过程中。通常半导体工艺中制作金属电极的流程是：先在衬底表面蒸镀或溅射一层金属，然后通过光刻和刻蚀工艺将该层金属中不需要的部分去除，从而得到所需的图形。孙哲仁告诉《中国电子报》记者，LED的电极所使用的金属材料不易通过刻蚀的方式得到其图形，因此就需要应用“Lift-Off”(拔起)工艺，先在衬底上涂覆一层光刻胶，然后进行光刻，在形成所需的图形之后再蒸镀金属，再将残存的光刻胶及涂覆在这些光刻胶之上的金属去除，从而得到金属电极的图形。在这一过程中，需要用到负性光刻胶，永光化学的ENPI200系列光刻胶产品就是很好的选择。

　　另据孙哲仁介绍，永光化学为迎合LED客户不同的生产工艺，也积极开发与之相适应的“Lift-Off”光刻胶。例如，针对不利于形成图案的高反射衬底材料，永光开发了内含染料的“Lift-Off”光刻胶，以消除因高反射而造成的过多的交联反应；另外，当LED工艺必须微缩化以增加其发光亮度时，永光化学也配合客户开发高解析“Lift-Off”光刻胶EPI622，以特殊的工艺将线宽缩减至1微米以下，可用于高亮度LED细线宽工艺。孙哲仁表示：“永光化学将以多年光刻胶开发及生产经验，向LED客户提供适用的光刻胶产品，希望能在LED产业蓬勃发展之际，协助客户掌握关键黄光化学材料相关工艺技术，进而增强其生产整合能力的优势，提高竞争力。”

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