半导体硅片

半导体硅片资讯

沪硅产业扩产300mm半导体硅片

沪硅产业发布公告称,为积极响应国家半导体产业发展战略,加速推进公司长远发展战略规划,抢抓半导体行业发展机遇,持续扩大公司集成电路用300mm硅片的生产规模,提升公司...

分类:名企新闻 时间:2024/6/14 阅读:420 关键词:半导体硅片

需求强劲 半导体硅片大厂胜高计划提价30%

据日经亚洲报道,由于强劲的需求和供应收紧,日本的半导体材料制造商正在提高价格。其中,半导体硅片大厂胜高(SUMCO)计划在2022年至2024年间将晶片制造商的长期合约价格...

分类:业界动态 时间:2022/6/9 阅读:1991

中环股份:拟定增募资不超50亿 投建半导体硅片项目

中环股份1月7日晚间公告,拟非公开发行股票不超5.57亿股,募资总额不超过50亿元,将用于集成电路用8-12英寸半导体硅片生产线项目、补充流动资金。募投项目的实施将进一步提升公司产品中半导体材料的占比,公司产品结构将得到优化。

分类:名企新闻 时间:2019/1/8 阅读:595 关键词:半导体硅片

中环股份:要跻身8英寸半导体硅片前三

中环股份是一家历史悠久的老国企,历史可追溯到1958年。公司2007年上市后,开始谱写发展新篇章。公司很早就涉及硅材料,一直在半导体行业耕耘,上市后大力发展单晶硅光伏产业,目前和隆基股份一起成为行业领头羊。在此期间,与中环股份同...

分类:名企新闻 时间:2018/11/29 阅读:598 关键词:半导体

半导体硅片行业变迁:日本半导体与硅片产业

作为IC晶圆生产直接的原材料,全球硅片行业经历了从6寸向12寸的迭代,同时生产中心由美国转移到了日本。目前日本凭借半导体产业分工带来的机遇占据硅片行业50%以上份额,但...

分类:行业趋势 时间:2018/7/18 阅读:1512 关键词:半导体硅片摩尔定律

半导体硅片供不应求,持续量价齐升高景气

(一)行业重回景气周期,半导体硅片量价齐升   硅片是最重要半导体制造原材料,占比达1/3。硅是目前最主要的半导体基底材料,90%以上的半导体芯片产品是用硅片作为基础材料而制作出来的。硅片也是半导体芯片生产过程中的最重要原材料,...

分类:业界动态 时间:2018/4/12 阅读:330 关键词:半导体硅片

国内规模大尺寸半导体硅片项目在银川开工建设

近日,宁夏银和半导体科技有限公司大尺寸项目(二期)在宁夏银川开工建设,标志着宁夏硅材料产业发展又迈上了一个新台阶,宁夏有望成为国内的半导体单晶硅材料生产基地。 ...

分类:业界要闻 时间:2018/3/28 阅读:704 关键词:半导体硅片

半导体硅片供需大缺口带来的设备投资机遇

硅晶圆供不应求到进入涨价周期,行业进入量价齐升的高景气度确定芯片应用领域扩大,半导体行业进入高景气周期确定。随着AI芯片、5G芯片、汽车电子、物联网等下游的兴起,全球半导体行业重回景气周期。存储器行业3DNAND扩产,下游应用领域...

分类:行业趋势 时间:2017/12/26 阅读:377 关键词:5G芯片AI芯片

提高半导体硅片国产化率刻不容缓

从今年初开始,半导体产业的关键材料之一硅晶圆的价格便不断上涨,且涨价趋势正快速从12英寸硅片向8英寸与6英寸蔓延。另有消息称,台积电、联电等代工龙头企业日前已与日本...

分类:业界要闻 时间:2017/10/12 阅读:909 关键词:12英寸硅晶圆半导体硅片

大尺寸半导体硅片等9个重大项目签约落户杭州大江东

9月7日,大江东产业集聚区重大投资项目签约仪式在杭举行,总投资达316亿元的9个项目正式签约落户。市委副书记、市长徐立毅出席签约仪式并讲话。戴建平、陈新华参加。 ...

分类:业界要闻 时间:2017/9/8 阅读:511 关键词:半导体硅片杭州大江东

半导体硅片技术

半导体硅片的化学清洗技术-硅片的化学清洗工艺原理

硅片经过不同工序加工后,其表面已受到严重沾污,一般讲硅片表面沾污大致可分在三类:A.有机杂质沾污:可通过有机试剂的溶解作用,结合超声波清洗技术来去除。B.颗粒沾污:运用物理的方法可采机械擦洗或超声波清洗技术来去除粒径≥0.4μm...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:2659

半导体硅片RCA清洗技术

传统的RCA清洗技术:所用清洗装置大多是多槽浸泡式清洗系统清洗工序:SC-1→DHF→SC-21.SC-1清洗去除颗粒:⑴目的:主要是去除颗粒沾污(粒子)也能去除部分金属杂质。⑵去除颗粒的原理:硅片表面由于H2O2氧化作用生成氧化膜(约6nm呈亲...

设计应用 时间:2007/4/29 阅读:3636

半导体硅片DHF清洗技术

a.在DHF洗时,可将由于用SC-1洗时表面生成的自然氧化膜腐蚀掉,而Si几乎不被腐蚀。b.硅片最外层的Si几乎是以H键为终端结构,表面呈疏水性。c.在酸性溶液中,硅表面呈负电位,颗粒表面为正电位,由于两者之间的吸引力,粒子容易附着在晶片...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:2406

半导体硅片SC-2清洗技术

1清洗液中的金属附着现象在碱性清洗液中易发生,在酸性溶液中不易发生,并具有较强的去除晶片表面金属的能力,但经SC-1洗后虽能去除Cu等金属,而晶片表面形成的自然氧化膜的附着(特别是Al)问题还未解决。2硅片表面经SC-2液洗后,表面Si...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1841

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