EUV光源制造商强强联手 加速产品开发进程

据EETimes网站报道，日本UshioInc.日前称其签署了一份意向书，计划和KoninklijkePhilipsElectronicsNV和JenoptikLaserOptikSystemeGmbH合作开发用于光刻设备的远紫外线（EUV）光源。

分类：名企新闻 时间：2007/11/10 阅读：331 关键词：制造商

IMEC宣布将于2010年导入ASML的β版EUV曝光装置

比利时的IMEC宣布将于2010年导入荷兰ASML的EUV（extremeultraviolet）曝光装置——“PPT（pre-productiontool）”。PPT相当于量产评估用β机，能够应用于22nm工艺CMOS技术的研发。IMEC同时还表

分类：名企新闻 时间：2007/10/23 阅读：733