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Nikon

隨著浸潤式微影技術(immersionlithography)及高數值口徑鏡頭之發展，Nikon相信該是發展新式193奈米掃描器發光系統用之偏極控制技術的時候了。以此技術可提升影像對比使最小節距(pitch)縮小至65奈米及45奈米製程範圍。早先於

新品速递时间：2007/4/29 阅读：2321