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FNK9926 MOS贴片场效应管MOSFET-操作原理丨乾野电子

供应FNK9926   MOS贴片场效应管MOSFET-操作原理丨乾野电子
供应FNK9926   MOS贴片场效应管MOSFET-操作原理丨乾野电子
  • 型号/规格:

    FNK9926

  • 品牌/商标:

    FNK

  • 封装形式:

    SOP-8

  • 环保类别:

    无铅环保型

  • 安装方式:

    贴片式

  • 包装方式:

    盒带编带包装

  • 功率特征:

    中功率

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普通会员
产品分类
商品信息 更新时间:2014-04-18

MOSFET详细说明

金属氧化物半导体场效应管(英语:Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor, MOSFET),简称金氧半场效晶体管,是一种可以广泛使用在模拟电路与数字电路的场效晶体管。金属氧化物半导体场效应管依照其沟道极性的不同,可分为电子占多数的N沟道型与空穴占多数的P沟道型,通常被称为N型金氧半场效晶体管(NMOSFET)与P型金氧半场效晶体管(PMOSFET)。

以金氧半场效晶体管(MOSFET)的命名来看,事实上会让人得到错误的印象。因为MOSFET跟英文单字“metal(金属)的第一个字母M,在当下大部分同类的组件里是不存在的。早期金氧半场效晶体管栅极使用金属作为材料,但随着半导体技术的进步,现代的金氧半场效晶体管栅极已用多晶硅取代了金属。

 

 

MOS管生产厂家

场效应管MOS管生产厂家乾野电子,简称FNKTECH。生产从事各种大功率半导体器件与功率集成器件的设计,生产和销售。是中国大功率半导体器件的领航设计与销售企业。且本公司MOS产品广泛应用于各类电动玩具,遥控飞机,遥控船,开关电源,UPS电源,电脑主板,显卡,电脑保护IC等。


操作原理

MOSFET的核心:金属—氧化层—半导体电容
金属—氧化层—半导体结构MOSFET在结构上以一个金属—氧化层—半导体的电容为核心(如前所述,今日的MOSFET多半以多晶硅取代金属作为其栅极材料),氧化层的材料多半是二氧化硅,其下是作为基极的硅,而其上则是作为栅极的多晶硅。这样子的结构正好等于一个电容器(capacitor),氧化层扮演电容器中介电质(dielectric material)的角色,而电容值由氧化层的厚度与二氧化硅的介电常数(dielectric constant)来决定。栅极多晶硅与基极的硅则成为MOS电容的两个端点。
当一个电压施加在MOS电容的两端时,半导体的电荷分布也会跟著改变。考虑一个P型的半导体(空穴浓度为NA)形成的MOS电容,当一个正的电压VGB施加在栅极与基极端(如图)时,空穴的浓度会减少,电子的浓度会增加。当VGB够强时,接近栅极端的电子浓度会超过空穴。这个在P型半导体中,电子浓度(带负电荷)超过空穴(带正电荷)浓度的区域,便是所谓的反转层(inversion layer)。
MOS电容的特性决定了MOSFET的操作特性,但是一个完整的MOSFET结构还需要一个提供多数载流子(majority carrier)的源极以及接受这些多数载流子的漏极。


联系方式

企业名:惠州市乾野电子有限公司

类型:生产企业

电话: 0-0

联系人:00

地址:广东惠州惠州市惠城区

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