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近日，美国宇航员唐佩蒂特（Don Pettit）在国际空间站手持尼康Z9全画幅微单数码相机拍摄的照片引发了广泛关注。作为美国国家航空航天局最年长的现役宇航员，唐佩蒂特利用尼康相机拍摄下了大量珍贵的太空画面。这些照片不仅定格下了浩瀚神...

时间：2025/6/16 阅读：44 关键词：Nikon

日本Nikon公司日前表示，极紫外（EUV）光刻项目进展情况良好。Nikon表示，EUV项目没有任何推迟。此前，某分析师指出，Nikon推迟了EUV项目的推进，这给了ASML巨大的时间上的优势。Nikon对这一消息予以否认。“我们没有推迟EUV项目

分类：名企新闻时间：2009/5/20 阅读：322 关键词：紫外光

由于半导体产业“停滞的不景气现状”，NikonCorp.(东京)日前表示将减缓其具有侵略性的扩张计划，之前该公司打算扩大193nm浸没式光刻扫描机的产能。Nikon表示将继续在日本Kumagaya建设新的厂房，但会视市场需求而安装设备。扩张Toch

分类：名企新闻时间：2009/2/9 阅读：874

据EETimes网站报道，日本芯片设备制造商Nikon近日称第二季度公司利润减少20.5％，主要是受到日元升值以及芯片制造商需求放缓的影响。Nikon第二季度运营利润为287.2亿日元（约合2.651亿美元），而去年同期利润为361.3亿日元。Ni

分类：业界动态时间：2008/8/8 阅读：878

日本NikonCorp.日前公布，受先进照相机和芯片制造设备的良好业绩，公司季度利润增长48%。但该公司预计今年运营利润将下滑。Nikon表示，在本土芯片设备市场上，公司受到了荷兰竞争对手ASML的强力挑战。Nikon预计，从4月开始财年中，公司运

分类：名企新闻时间：2008/5/16 阅读：4857 关键词：半导体

近期举行的SPIE先进光刻技术会议上，ASML、Canon和Nikon相继介绍了他们各自的极紫外（EUV）光刻技术发展路途。SPIE会上，众芯片制造商就以下观点达成了一致：到22纳米及以下节点，必将使用EUV技术。目前为止，对于22纳米节点，除

分类：名企新闻时间：2008/3/4 阅读：565

据EETimes网站报道，日本设备商NikonCorp正在积极迎接来自液晶显示和逻辑芯片制造商们的巨大设备需求，以应对明年可能出现的存储制造商资本支出减少的局面。Nikon日前预测，明年其款的扫描光刻设备将会有强劲需求，用于微芯片和大面积玻...

分类：业界要闻时间：2007/12/13 阅读：325 关键词：LCD 制造商

Nikon在SEMICONJapan上推出的扫描场i-line步进式光刻机系列的产品NSR-SF155，功能“强大”，将应用于下一代存储器及微处理器制造过程中非关键层的量产工艺。吞吐能力强——通过采用Skyhook技术及增加载物台速度而降低了工

分类：名企新闻时间：2007/12/4 阅读：1047 关键词：光刻机

隨著浸潤式微影技術(immersionlithography)及高數值口徑鏡頭之發展，Nikon相信該是發展新式193奈米掃描器發光系統用之偏極控制技術的時候了。以此技術可提升影像對比使最小節距(pitch)縮小至65奈米及45奈米製程範圍。早先於

新品速递时间：2007/4/29 阅读：2320