ASML世界最先进EUV光刻机只卖了5台！Intel：光刻没那么重要了
光刻机领域的巨头 ASML 向 Intel 交付了首套高数值孔径 High - NA EUV 光刻机，型号为 TWINSCAN EXE：5000。在当时，业界普遍对这款光刻机寄予厚望，认为 High - NA EUV 将...
分类：业界动态 时间：2025/7/5 阅读：327 关键词：EUV光刻机
英特尔董事：新型晶体管设计或减少芯片制造对 EUV 光刻机依赖
在芯片制造领域，一直以来先进光刻设备都占据着核心地位。然而，英特尔一位董事提出了一个颇具挑战性的观点，他认为未来晶体管设计，如环绕栅极场效应晶体管（GAAFET）和互补场效应晶体管（CFET），可能会降低芯片制造对先进光刻设备，尤...
分类：名企新闻 时间：2025/6/20 阅读：262 关键词：晶体管
如何粉碎一块薄饼？这个问题困扰着阿姆斯特丹纳米光刻高级研究中心 (ARCNL) 的研究员迪翁·恩格尔斯 (Dion Engels)。 这里所说的薄饼指的是被粉碎的锡滴，它在 ASML 的光刻机中每秒被引爆五万次。这会产生等离子体，发射出极紫外 (EUV...
分类：业界动态 时间：2025/6/17 阅读：215 关键词：EUV光刻机
4 亿美元 ASML 高 NA EUV 光刻机，台积电持谨慎态度
在半导体制造领域，光刻机技术一直是关键的竞争焦点。近期，ASML 推出的高数值孔径（NA）EUV 光刻机备受关注，但台积电却表现出了谨慎的态度。 ASML 的这台高数值孔径 E...
分类：业界动态 时间：2025/6/9 阅读：315 关键词：台积电
根据外媒报道，台积电在芯片制造市场的份额一直在增加，公司的资本支出（CapEx）也在增加，自 2015 年以来增长了五倍。该公司计划在 2025 年投资 380 亿美元至 420 亿美元...
分类：业界动态 时间：2025/5/17 阅读：759 关键词：DRAM
在半导体新元素的采用方面，台积电多年来一直是先驱，并经常引领潮流。但现在，该公司似乎将放弃在其 A14 工艺中使用高数值孔径 EUV 光刻设备，而是采用更传统的 0.33 数值...
据日经新闻获悉，荷兰先进芯片制造设备供应商 ASML Holdings 计划在未来几年将其驻日本机器维护人员增加五倍。 ASML 是极紫外 (EUV) 光刻设备的唯一制造商，该设备对于...
根据外媒报道，泽列诺格勒纳米技术中心 (ZNTC) 和 Planar已完成俄罗斯首台支持 350nm 级工艺技术（0.35 微米）的光刻系统的开发。白俄罗斯 Planar 公司协助完成了这一开发...
分类：业界动态 时间：2025/3/31 阅读：297 关键词：光刻机
日前，美国商务部工业和安全局（BIS）修订了《出口管理条例》，涉及中国、缅甸和巴基斯坦等三个国家的13家实体，而中国实体占其中11家，其中涉及中国科学院长春光学精密机...
分类：业界要闻 时间：2025/1/7 阅读：1205 关键词：光刻机
据CNews报道，俄罗斯公布了开发自己的光刻机的路线图，旨在制造比 ASML 系统成本更低、更复杂的设备 。这些机器将使用波长为 11.2 纳米的激光器，而不是 ASML 使用的标准 1...
分类：业界动态 时间：2024/12/19 阅读：839 关键词：光刻机
1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。 这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...
基础电子 时间：2018/5/28 阅读：1817
步进扫描光刻系统是一种混合设各，融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术，是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：5070
图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间，掩模图像是被缩小了5～10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点：，可以利用大得多的特征...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3701
对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3572
1引言自1995年纳米压印技术提出以来，人们希望通过该技术实现低成本、高分辨率、高效率、大面积的批量制备纳米结构。但是，传统的热压印技术需要加热、高压环节，从而造成压印环节复杂、难于控制。1999年，美国得克萨斯州大学的研究小组...
设计应用 时间：2007/12/17 阅读：1966
光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日，中国科学院光电技术研究所为适应市场需求，成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机，并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高，汞灯寿命长)、双目双视场显微
新品速递 时间：2007/12/6 阅读：1796
周虎明 韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035)摘要：光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：3366
TWINSCAN™XT:1700iTheXT:1700iwithHydroLithimmersiontechnologydeliverstheworld’sfirst1.2hyperNAforhigh-volumemanufacturi
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：2472
中科院<aclass="bl"title="院属机构>科研机构>高技术领域>光电技术研究所"href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：1472
■ [产品名称]：TG2U型光刻机 ■ [工艺方案]： 半导体设备 ■ [产品简介]： 产品特点：TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。 ■ 说 明 TG2U型光刻机主要技术参...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：153
