随着决定超精细半导体工艺竞争力的极紫外（EUV）光刻设备重要性日益提升，三星电子、台积电和英特尔三大代工厂对下一代设备的争夺也愈加激烈。 此前一直犹豫是否采用下一代EUV设备的台积电CEO，放弃了内部重大活动，飞赴荷兰与ASML洽...
分类：业界动态 时间：2024/5/28 阅读：227 关键词：EUV光刻
据日前新闻报道，俄罗斯第一个能够生产尺寸达 350 nm 芯片的光刻机已经制造出来并正在进行测试。俄罗斯联邦工业和贸易部副部长瓦西里·什帕克在CIPR会议期间向塔斯社通报了...
分类：业界动态 时间：2024/5/27 阅读：257 关键词：光刻机
从相关报道看来，Hyper-NA EUV 和高生产力工具是 ASML 未来十年的主要目标。 ASML 荣誉首席技术官 Martin van den Brink 分享了通用 EUV 平台的“愿景”，其中可能包括 ...
分类：业界动态 时间：2024/5/23 阅读：329 关键词：ASML
三星电子正在深化与蔡司集团在下一代EUV和芯片技术方面的合作，蔡司集团是全球唯一的极紫外（EUV）光系统供应商ASML Holding NV的光学系统唯一供应商。 三星执行董事长...
分类：业界动态 时间：2024/4/29 阅读：581 关键词：三星
据商务部网站消息，3月27日，商务部部长王文涛在京会见来访的荷兰外贸与发展合作大臣范吕文。双方重点就光刻机输华和加强半导体产业合作等议题深入交换意见。商务部副部长...
分类：业界要闻 时间：2024/3/28 阅读：1918 关键词：光刻机
一名消息人士透露，因荷兰政府的反移民政策倾向，光刻机巨头ASML正计划搬离荷兰。目前，荷兰政府已成立了一个名为“贝多芬计划”的特别工作组，由首相马克·吕特亲自领导，...
分类：名企新闻 时间：2024/3/8 阅读：320 关键词：光刻机
据路透社报道，ASML 和英特尔本周表示，后者通过打开光源并使光到达晶圆上的光刻胶，利用 ASML 的高数值孔径光刻系统实现了一个重要的里程碑。这表明光源和镜子已正确对齐...
分类：业界动态 时间：2024/2/29 阅读：310 关键词：光刻机
本周，在 2024 年先进光刻 + 图案化会议上，全球领先的纳米电子和数字技术研究与创新中心 IMEC 将展示 EUV 工艺、掩模和为实现高数值孔径（High-NA）极紫外（EUV）光刻而准...
分类：业界动态 时间：2024/2/27 阅读：403 关键词：光刻机
光刻机巨头 ASML 今日公布了 2023 年第四季度和全年业绩，2023 年第四季度净销售收入 72.37 亿欧元（备注：当前约 563.76 亿元人民币），预期 69.3 亿欧元，毛利率 51.4%，...
分类：业界动态 时间：2024/1/25 阅读：575 关键词：ASML
针对美方直接介入、干扰荷兰企业对华出口光刻机问题，商务部新闻发言人束珏婷在11日举行的例行新闻发布会上回应称，美方将出口管制问题工具化、武器化，甚至对其他国家企业...
分类：业界要闻 时间：2024/1/12 阅读：4950 关键词：光刻机
1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。 这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...
基础电子 时间：2018/5/28 阅读：1620
步进扫描光刻系统是一种混合设各，融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术，是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：4796
图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间，掩模图像是被缩小了5～10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点：，可以利用大得多的特征...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3555
对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3327
1引言自1995年纳米压印技术提出以来，人们希望通过该技术实现低成本、高分辨率、高效率、大面积的批量制备纳米结构。但是，传统的热压印技术需要加热、高压环节，从而造成压印环节复杂、难于控制。1999年，美国得克萨斯州大学的研究小组...
设计应用 时间：2007/12/17 阅读：1884
光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日，中国科学院光电技术研究所为适应市场需求，成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机，并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高，汞灯寿命长)、双目双视场显微
新品速递 时间：2007/12/6 阅读：1740
周虎明 韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035)摘要：光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：3241
TWINSCAN™XT:1700iTheXT:1700iwithHydroLithimmersiontechnologydeliverstheworld’sfirst1.2hyperNAforhigh-volumemanufacturi
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：2326
中科院<aclass="bl"title="院属机构>科研机构>高技术领域>光电技术研究所"href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：1395
■ [产品名称]：TG2U型光刻机 ■ [工艺方案]： 半导体设备 ■ [产品简介]： 产品特点：TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。 ■ 说 明 TG2U型光刻机主要技术参...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：64
