台积电董事长魏哲家首度证实，台积电已经采购了 ASML 最新的 High - NA EUV（高数值孔径极紫外光）设备，这一举措是为了提前布局 A14 及更先进的制程。 对于市场一直关...
分类：名企新闻 时间：2026/6/5 阅读：5622 关键词：台积电
虽然ASML CEO在日前披露，使用下一代High NA EUV生产的芯片即将亮相。但外媒semiwiki，依然在今日发布了一篇名为“ASML High-NA EUV is Not Ready for High-Volume Product...
分类：业界动态 时间：2026/5/25 阅读：4835 关键词：光刻机
2nm以下芯片倒计时！ASML官宣最强光刻机即将出货首批芯片
ASML 公司首席执行官傅恪礼郑重宣布，首批运用新一代高数值孔径（High - NA）EUV 光刻机制造的芯片产品，预计将在未来几个月内正式亮相，这些芯片广泛覆盖逻辑芯片和存储芯...
分类：名企新闻 时间：2026/5/21 阅读：5108 关键词：ASML
现代微电子技术正面临一个根本性的瓶颈。目前用于生产5纳米、4纳米和3纳米芯片的13.5纳米光刻技术正接近其极限。到2030年，该行业将达到其物理极限：采用该波长的传统光学...
分类：业界动态 时间：2026/5/20 阅读：7886 关键词：光刻机
ASML第一季度财报亮眼：净销售额88亿欧元，光刻机巨头持续领跑芯片制造赛道
全球光刻机领军企业ASML近日交出了一份令人惊艳的成绩单。第一季度88亿欧元的净销售额、53%的毛利率、28亿欧元的净利润，这一串数字背后，是半导体行业怎样的发展态势？ASML又将如何保持其技术领先优势？核心业绩远超预期2026年第一季度...
分类：业界动态 时间：2026/4/15 阅读：3982
三星电子豪购20台EUV光刻机 加速1c DRAM与HBM4产能布局
全球半导体巨头三星电子近日宣布向ASML订购约20台极紫外(EUV)光刻机，总价值高达34亿美元，展现出其在先进制程领域的雄心壮志。这批设备将主要用于提升10纳米级第六代DRAM...
分类：业界要闻 时间：2026/4/7 阅读：38596
11月26日，上海芯上微装科技股份有限公司宣布，其自主研发的首台350nm步进光刻机（AST6200）已完成出厂调试与验收，正式发往客户现场。这一里程碑事件标志着我国在高端半导体光刻设备领域取得又一重大技术突破。 AST6200是芯上微装打...
分类：业界动态 时间：2025/11/27 阅读：10247 关键词：光刻机
芯片制造关键设备领域迎来新动态！11月18日晚间，国内半导体行业上市公司赛微电子（300456.SZ）发布公告，拟以不超过6000万元交易总价款收购芯东来部分股权，标志着其正式...
分类：业界动态 时间：2025/11/19 阅读：6326 关键词：赛微电子
佳能位于日本宇都宫市的新光刻机制造工厂预计在 9 月正式投入量产。该工厂主要聚焦于成熟制程及后段封装应用设备，这一举措将为全球芯片封装与成熟制程市场注入更多的设备产能。 这座新工厂早在 2023 年就已动工建设，佳能可能会运用...
分类：名企新闻 时间：2025/8/4 阅读：1746 关键词：佳能
ASML世界最先进EUV光刻机只卖了5台！Intel：光刻没那么重要了
光刻机领域的巨头 ASML 向 Intel 交付了首套高数值孔径 High - NA EUV 光刻机，型号为 TWINSCAN EXE：5000。在当时，业界普遍对这款光刻机寄予厚望，认为 High - NA EUV 将...
分类：业界动态 时间：2025/7/5 阅读：609 关键词：EUV光刻机
1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。 这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...
基础电子 时间：2018/5/28 阅读：2129
步进扫描光刻系统是一种混合设各，融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术，是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：5335
图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间，掩模图像是被缩小了5～10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点：，可以利用大得多的特征...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3854
对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3707
1引言自1995年纳米压印技术提出以来，人们希望通过该技术实现低成本、高分辨率、高效率、大面积的批量制备纳米结构。但是，传统的热压印技术需要加热、高压环节，从而造成压印环节复杂、难于控制。1999年，美国得克萨斯州大学的研究小组...
设计应用 时间：2007/12/17 阅读：2110
光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日，中国科学院光电技术研究所为适应市场需求，成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机，并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高，汞灯寿命长)、双目双视场显微
新品速递 时间：2007/12/6 阅读：1893
周虎明 韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035)摘要：光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：3624
TWINSCAN™XT:1700iTheXT:1700iwithHydroLithimmersiontechnologydeliverstheworld’sfirst1.2hyperNAforhigh-volumemanufacturi
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：2610
中科院<aclass="bl"title="院属机构>科研机构>高技术领域>光电技术研究所"href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：1677
■ [产品名称]：TG2U型光刻机 ■ [工艺方案]： 半导体设备 ■ [产品简介]： 产品特点：TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。 ■ 说 明 TG2U型光刻机主要技术参...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：271
