德国蔡司集团半导体业务负责人弗兰克?罗蒙德（Frank Rohmund）在彭博电视访谈中的一番言论，引发了广泛的讨论。他表示，中国在开发可商用的极紫外（EUV）光刻机方面，“合...
分类：名企新闻 时间：2026/9/4 阅读：4185 关键词：EUV光刻机
在科技行业风云变幻的舞台上，知名人物的每一次转身都备受瞩目。2024 年底，Pat Gelsinger 卸任英特尔 CEO 一职后，开启了一段新的探索之旅。在短短 100 天内，他密集召开...
分类：业界动态 时间：2026/7/29 阅读：2707 关键词：光刻机
在全球半导体产业的激烈竞争中，蔡司半导体制造技术公司（Zeiss Semiconductor Manufacturing Technology）与 ASML 的合作备受瞩目。近日，蔡司已确认将在德国南部奥伯科亨...
分类：名企新闻 时间：2026/7/28 阅读：3362 关键词：光刻机
近日，ASML 发布新闻稿，确认英特尔晶圆代工已将 High - NA（高数值孔径）技术投入量产。英特尔正运用该工具，在部分最新笔记本电脑处理器的部分层级进行图案化处理，其中...
分类：业界动态 时间：2026/7/17 阅读：5737 关键词：英特尔
根据SK 海力士纳斯达克上市时提交的监管文件，该公司预计将花费约 11.9 万亿韩元收购 ASML ( ASML ) 的极紫外 (EUV) 光刻扫描仪。 ASML的股价上涨了约 4%，其他芯片设备...
分类：业界动态 时间：2026/7/7 阅读：2239 关键词：SK海力士
近期，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）与荷兰政府接连发表声明，强调中国绝无可能获取其最先进的EUV光刻机设备。这一表态迅速引发国际社会广泛关注，折射出全球半导体产业链...
分类：业界要闻 时间：2026/6/22 阅读：43209
台积电董事长魏哲家首度证实，台积电已经采购了 ASML 最新的 High - NA EUV（高数值孔径极紫外光）设备，这一举措是为了提前布局 A14 及更先进的制程。 对于市场一直关...
分类：名企新闻 时间：2026/6/5 阅读：8312 关键词：台积电
虽然ASML CEO在日前披露，使用下一代High NA EUV生产的芯片即将亮相。但外媒semiwiki，依然在今日发布了一篇名为“ASML High-NA EUV is Not Ready for High-Volume Product...
分类：业界动态 时间：2026/5/25 阅读：4909 关键词：光刻机
2nm以下芯片倒计时！ASML官宣最强光刻机即将出货首批芯片
ASML 公司首席执行官傅恪礼郑重宣布，首批运用新一代高数值孔径（High - NA）EUV 光刻机制造的芯片产品，预计将在未来几个月内正式亮相，这些芯片广泛覆盖逻辑芯片和存储芯...
分类：名企新闻 时间：2026/5/21 阅读：5250 关键词：ASML
现代微电子技术正面临一个根本性的瓶颈。目前用于生产5纳米、4纳米和3纳米芯片的13.5纳米光刻技术正接近其极限。到2030年，该行业将达到其物理极限：采用该波长的传统光学...
分类：业界动态 时间：2026/5/20 阅读：8006 关键词：光刻机
1965年，戈登·摩尔提出摩尔定律。当价格不变时，集成电路上可容纳的元器件的数目，约每隔18-24个月便会增加一倍，性能也将提升一倍。 这个不断触碰半导体工艺极限的定律，也经常伴随着“死亡”和“新生”两方面的话题。其中就有人认...
基础电子 时间：2018/5/28 阅读：2188
步进扫描光刻系统是一种混合设各，融合了扫描投影光刻机和分步重复光刻机技术，是通过使用缩小透镜扫描一个大曝光场图像到晶片上一部分实现的。这种技术在一定程度上缓解了器件特征尺寸减小而半导体晶圆物理尺寸增加的问题。一束聚焦的狭...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：5402
图显示了一种简单分步重复光刻系统。掩模版放在聚焦透镜和投影系统之间，掩模图像是被缩小了5～10倍投影到衬底晶片上的。这种光学系统有很多优点：，可以利用大得多的特征...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3912
对于接触式光刻机，曝光时掩模压在光刻胶的衬底晶片上，其主要优点是可以使用价格较低的设备制造出较小的特征尺寸。接触式光刻和深亚微米光源已经达到了小于0.1gm的特征尺寸，常用的光源分辨率为0.5gm左右。接触式光刻机的掩模版包括了要...
基础电子 时间：2008/12/2 阅读：3766
1引言自1995年纳米压印技术提出以来，人们希望通过该技术实现低成本、高分辨率、高效率、大面积的批量制备纳米结构。但是，传统的热压印技术需要加热、高压环节，从而造成压印环节复杂、难于控制。1999年，美国得克萨斯州大学的研究小组...
设计应用 时间：2007/12/17 阅读：2159
光电所成功研制URE-2000/17型台式紫外深层光刻机近日，中国科学院光电技术研究所为适应市场需求，成功研发了一种URE-2000/17型台式紫外光刻机，并投入批量生产。该产品采用200W直流高压汞灯(光能稳定性很高，汞灯寿命长)、双目双视场显微
新品速递 时间：2007/12/6 阅读：1930
周虎明 韩隽(中国电子科技集团公司第58研究所，江苏 无锡 214035)摘要：光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：3687
TWINSCAN™XT:1700iTheXT:1700iwithHydroLithimmersiontechnologydeliverstheworld’sfirst1.2hyperNAforhigh-volumemanufacturi
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：2664
中科院<aclass="bl"title="院属机构>科研机构>高技术领域>光电技术研究所"href="javascript:void(0)">光电所</a>以其独特的技术优势和质量
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：1769
■ [产品名称]：TG2U型光刻机 ■ [工艺方案]： 半导体设备 ■ [产品简介]： 产品特点：TG2U型光刻机是制造中，大规模集成电路，传感器，表面波元件，磁泡，微波和CCD等器件的重要光刻设备。 ■ 说 明 TG2U型光刻机主要技术参...
新品速递 时间：2007/4/29 阅读：323
