光刻胶

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雅克科技:拟将“新一代电子信息材料国产化项目-光刻胶及光刻胶配套试剂”延期至2024年3月

公司拟将“新一代电子信息材料国产化项目-光刻胶及光刻胶配套试剂”的预定可使用状态日期由2023年9月延期至2024年3月。  同日公告,鉴于募投项目中的“浙江华飞电子基材...

分类:名企新闻 时间:2023/12/29 阅读:501 关键词:电子信息

鼎龙股份投资建设年产300吨KrF/ArF光刻胶产业化项目

鼎龙股份公布,为助力推动半导体KrF/ArF光刻胶的国产替代进程,同时进一步丰富湖北鼎龙控股股份有限公司的业务板块,加速实现公司进口替代“创新材料平台型企业”的战略发...

分类:名企新闻 时间:2023/12/26 阅读:267 关键词:鼎龙股份

日本光刻胶价格将上涨10~20 %。

韩国媒体The Elec 报导,日本住友化学子公司东友精密化学(Dongwoo Fine-Chem) 通知韩国半导体公司,表示由于原材料和劳动力费用不断上涨,KrF 和L 系列光刻胶供货价格将...

分类:业界动态 时间:2023/12/15 阅读:443 关键词:光刻胶

彤程新材光刻胶项目新进展

彤程新材披露光刻胶项目最新进展——公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发,首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品,已具备量产能力等。  彤程新材于2020...

分类:名企新闻 时间:2023/11/7 阅读:153 关键词:光刻胶

光刻胶龙头瑞红苏州启动IPO辅导

近日,瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司(以下简称“瑞红苏州”)向江苏证监局提交了向不特定合格投资者公开发行股票并在北交所上市辅导备案材料,辅导机构为国信证券。...

分类:名企新闻 时间:2023/10/9 阅读:162 关键词:光刻胶

日本投资公司商谈收购光刻胶巨头JSR

根据了解,JIC正在商谈以1亿日元收购用于半导体生产光刻胶生产公司JSR,计划最早提出初步收购意向,进展顺利的下,JSR将在2024年被京东证交所摘牌。 日本政府与民间合资...

分类:名企新闻 时间:2023/6/26 阅读:555 关键词:JSR

光刻胶不断“被搅局” | 半导体材料故事(2)

不久前,日本政府宣布,将进一步针对放宽对韩出口管制展开磋商。而这也意味着持续了三年之久的日韩半导体材料战,逐渐接近尾声。在被日本限制出口韩国的三种材料中,一款看...

分类:业界动态 时间:2023/6/13 阅读:425 关键词:光刻胶

光刻胶原材料企业山东广浦生物筹备科创板上市

近期,山东广浦生物科技有限公司正积极筹备在科创板上市。当地政府和相关部门上门开展精准辅导,积极引导企业做好规范治理和上市相关规划,及时帮助企业解决上市过程中遇到...

分类:业界动态 时间:2023/4/23 阅读:277 关键词:光刻胶原材料

干式光刻胶搅动市场,湿式光刻胶退出先进制程舞台?

近日,市场调研机构TECHCET在最新报告中表示,随着半导体先进制程的竞争愈发激烈,以及EUV制程层数的增加,光刻胶材料市场规模激增。其中,干式光刻胶成为广受关注的新型EU...

分类:业界动态 时间:2022/10/25 阅读:579

2025年EUV光刻胶市场规模预计超过2亿美元

电子材料咨询机构TECHCET近期研报(以下简称研报)显示,随着高端芯片所需的先进制程工艺加速引入EUV,金属氧化物、干沉积、多触发等EUV光刻胶的市场规模将在2025年超过2亿...

分类:行业趋势 时间:2022/10/18 阅读:1992

光刻胶技术

微制造光刻工艺中光刻胶性能的比较

来五星,轩建平,史铁林,杨叔子(华中科技大学微系统中心,武汉 430074)摘要:在MEMS微加工和实验过程过程中,出于制造成本、光刻胶性能的考虑,需要选用合适的光刻胶。本文介绍了常用的正性胶和负性胶以及其曝光、显影的过程,正性胶...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:2261

浅谈光刻胶在集成电路制造中的应用性能

(电子科技大学 微电子与固体电子学院,成都 610054)摘 要:光刻胶技术是曝光技术中重要的组成部分,高性能的曝光工具需要有与之相配套的高性能的光刻胶才能真正获得高分辨率的加工能力。主要围绕光刻胶在集成电路制造中的应用,对其反应...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:3863

光刻胶等效扩散长度对0.13um工艺窗口的影响

(上海华虹NEC电子有限公司,上海201206)摘 要:介绍了如何通过测量得出的等效扩散长度和光刻机的照明条件来对任何光刻工艺的线宽均匀性进行评估。展示了在0.13um及以下工艺中等效扩散对能量裕度和掩模版误差因子的影响的研究结果。关键...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:2482

常压射频低温冷等离子体清洗光刻胶研究

李海江,王守国,赵玲利,叶甜春(中国科学院微电子研究所,北京 100010)摘要:介绍了一种新型的常压射频低温冷等离子体放电设备,用该设备进行了清洗光刻胶的工艺实验研究。实验结果表明:在100mm硅片表面涂上9912光刻胶,用等离子体进...

设计应用 时间:2007/4/29 阅读:2526

光刻胶相关知识

光刻开始于一种称作光刻胶的感光性液体的应用。图形能被映射到光刻胶上,然后用一个developer就能做出需要的模板图案。光刻胶溶液通常被旋转式滴入wafer。如图2.5所示,wafer被装到一个每分钟能转几千转的转盘上。几滴光刻胶溶液就被滴到...

新品速递 时间:2007/4/29 阅读:1794

FSI 发布全新的用于无灰化、湿法光刻胶去除ViP工艺技术

该技术应用在ZETA®G3喷雾清洗平台上(2006年3月20日)--FSI国际有限公司(Nasdaq:FSII)面向全球发布全新的ViPR™技术。这项创新技术省去了绝大多数已注入光刻胶去除所需的灰化工艺步骤,包括1x1017离子

新品速递 时间:2007/4/28 阅读:1400

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