彤程新材光刻胶项目新进展

类别:名企新闻  出处:网络整理  发布于:2023-11-07 09:58:56 | 170 次阅读

 彤程新材披露光刻胶项目进展——公司已经完成ArF光刻胶部分型号的开发,首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品,已具备量产能力等。
 
 彤程新材于2020年12月2日曾公告一则对外投资项目,决定通过全资子公司彤程电子在上海化学工业区投资建设年产1.1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目。
 如今,彤程新材在公告中介绍,上述项目工程阶段已竣工,目前已逐步进入试生产阶段。公司上海化学工业区工厂占地36200平方米,设计能力年产1千吨半导体光刻胶、1万吨显示用光刻胶和2万吨高纯EBR试剂(光刻胶去边剂)。同时在国际国内半导体厂商及光刻胶厂商战略合作推动下,完成了产线优化及品控升级。
 从公告披露的具体情况来看,半导体光刻胶产能建设方面,公司上海化学工业区工厂年产1千吨半导体光刻胶量产产线,主要包括年产300/400吨ArF及KrF光刻胶量产产线,通过采用超高纯PFA(涂层)设备、引入高精度物料流量控制系统、配以自研的高精度高效率光刻过滤系统,可以实现ppt级金属杂质及0.1um级别的颗粒管控,具备不同配方先进制程光刻胶的生产能力。
 半导体光刻胶产品开发及量产方面,主要涉及到两款产品。其中,在ArF光刻胶产品方面,彤程新材已经完成ArF光刻胶部分型号的开发,首批ArF光刻胶的各项出货指标能对标国际光刻胶大厂产品,已具备量产能力,目前处于量产前的光刻工艺测试及产品验证阶段,能否验证通过尚存在一定的不确定性。产能可同时供应国内大部分芯片制造商,能较好地满足国内先进制程光刻胶的部分需求。
 

关键词:光刻胶

全年征稿 / 资讯合作

稿件以电子文档的形式交稿,欢迎大家砸稿过来哦!

联系邮箱:3342987809@qq.com

版权与免责声明

凡本网注明“出处:维库电子市场网”的所有作品,版权均属于维库电子市场网,转载请必须注明维库电子市场网,https://www.dzsc.com,违反者本网将追究相关法律责任。

本网转载并注明自其它出处的作品,目的在于传递更多信息,并不代表本网赞同其观点或证实其内容的真实性,不承担此类作品侵权行为的直接责任及连带责任。其他媒体、网站或个人从本网转载时,必须保留本网注明的作品出处,并自负版权等法律责任。

如涉及作品内容、版权等问题,请在作品发表之日起一周内与本网联系,否则视为放弃相关权利。

热点排行

广告