离子注资讯-维库电子市场网

离子注入是半导体器件和集成电路生产的关键工艺之一，其提供的高精度和高均匀性可以大幅度提高集成电路的成品率，因此，离子注入机与光刻机、刻蚀机和镀膜设备并称为芯片制...

分类：业界动态时间：2023/8/25 阅读：460 关键词：离子注入

“芯”产业成为房地产公司万业企业的转型方向。万业企业近期公告，拟通过发行股份和现金购买等方式，作价9.7亿元收购凯世通100%股权，从而涉足集成电路产业。　　8月6日，在公司资产重组说明会上，万业企业董事长朱旭东表示，本次交易...

分类：业界动态时间：2018/8/7 阅读：372 关键词：离子注

应用材料公司今天宣布全新推出AppliedVarianVIISta?9003D系统。作为业内的中电流离子注入设备，该系统专为2x纳米以下节点的FinFET和3DNAND制程而开发，具有超凡的控制能力...

分类：名企新闻时间：2014/7/7 阅读：1094

由北京中科信电子装备有限公司自主研发的300mm/65nm大角度离子注入机进入中芯国际(北京)集成电路制造有限公司，开始接受国际主流生产线的技术测试与器件工艺检验，为这一国产集成电路制造装备实现重大技术跨越作的冲刺。据了解，这是国产...

分类：业界要闻时间：2010/11/25 阅读：295 关键词：生产线

全球IC制造晶圆清洗系统厂商FSI国际有限公司日前发布了一篇由海力士半导体有限公司、Varian半导体设备有限公司、Nanometrics有限公司和FSI联合提交的论文，该论文证实了带有ViPR技术的ZETA喷雾式清洗系统是超高剂量等离子体掺杂（P

分类：名企新闻时间：2008/6/30 阅读：948 关键词：CMOS

离子注入法制备GaN基稀释磁性半导体薄膜的方法，将磁性离子如Mn及Fe、Co或Ni等注入GaN半导体薄膜中，即用离子注入的方法以150～250keV的能量注入磁性离子，然后在850－900℃、NH3气氛条件下退火处理。DMS离子注入法是通过离子注入

分类：业界要闻时间：2008/3/4 阅读：990 关键词：半导体元器件

AxcelisTechnologies在SEMICONJapan2007期间推出的新款OptimaXE单晶圆高能离子注入设备，是AxcelisOptima单晶圆系列一款产品。OptimaXE所提供能量范围从10keV到4MeV，它所具有的灵活性

分类：名企新闻时间：2007/12/4 阅读：801

半导体制造设备供应商AxcelisTechnologies,Inc.日前宣布，公司再次自一家亚洲大型芯片制造商获得了一台OptimaHD高剂量注入设备的订单。据悉，该设备将于今年首季度出货。据称，这家芯片制造商对此前采购的Axcelis的Optim

时间：2007/4/16 阅读：389 关键词：存储器制造商

2006年9月28日，国家“十五”863计划集成电路制造装备重大专项“100nm高密度等离子刻蚀机和大角度离子注入机”项目新闻发布会暨产品销售签约仪式在京西宾馆举行，中共中央政治局委员、北京市委书记刘淇，国家科学技术部部长徐冠华、副部...

时间：2007/4/10 阅读：422

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