80nm应用中的高数位孔径，双载具93nm TWINSCAN 扫描分步投影机

程天风（ASML 阿斯麦光刻设备有限公司）摘要：针对次100nm的生产,ASML 研发了一个新光刻系统,其中克服了许多底k1解晰度的挑战。其中包含0.85NA双载具193nm TWINSCAN的设计、性能与一些初步的量测数据。80nm的生产必须要有多方面的量测与...

新品速递 时间：2007/4/29 阅读：2854

193nm光刻技术延伸面临的选择

摘要： 就象上一代248nm光刻技术一样，193nm光刻可能会继续拓展和延伸，其使用极限将远远超出人们的预计。随着强烈相位移和浸入式光刻以及其它一些技术的应用，193nm光刻至少可以维持到45nm工艺时代，甚至更远。 尽管以前没有考...

新品速递 时间：2007/4/29 阅读：3194