类别:其他 出处:SEMI 发布于:2008-10-13 13:50:21 | 1287 次阅读
SUSS——的三维、MEMS、先进封装、纳米压印设备供应商,于2008年10月7日宣布,其手动光刻机,外加一个纳米压印的组件,即可对大面积图形重复进行亚50纳米的压印。
这项新技术名为“基板完整压印光刻”(SCIL),由荷兰埃因霍恩飞利浦研究所开发,通过技术协议转让给SUSS MicroTec。
硬质模版纳米压印光刻(NIL)分辨率高,但面积小,软质模版压印面积大,但分辨率通常低于200纳米,SCIL刚好弥补两者的缺陷。SCIL性能卓越,既能实现基板上大面积图形的完整性,又能满足其高,是纳米压印强有力的工具,尤其适用于高亮度发光二极管,高效激光二极管,及新一代硬盘驱动器的位图媒介(BPM)。
SCIL可以很容易地现场安装在SUSS MA6/8光刻机上。MiPlaza是位于荷兰埃因霍恩高科技园区的开放型创新中心,隶属于飞利浦研究所,向全世界高科技机构提供技术、服务和基础建设。MiPlaza目前继续对SCIL进行深入研究。
“与飞利浦研究所和MiPlaza的合作,表明 了SUSS向市场提供创新技术的一贯承诺,”SUSS MicroTec光刻总经理Rolf Wolf说,“SCIL对于大面积纳米压印,是一项重大突破。”
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