近日，光驰半导体技术（上海）有限公司原子层镀膜与刻蚀设备项目开工奠基仪式举行。项目全部建成后将具有年产高精度原子层镀膜机120台和5台刻蚀机的产能，具备较强国内先进...
分类：名企新闻 时间：2022/9/28 阅读：864
近来有网络媒体称，“中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机，性能优良，将用于全球首条5纳米芯片制程生产线”，并评论说“中国芯片生产技术终于突破欧美封锁，次占领世界制高点”“中国弯道超车”等等。 中微公司的刻蚀机的确水...
近期中微半导体自主研制的5纳米等离子体刻蚀机经台积电验证，性能优良，将用于全球首条5纳米制程生产线。5纳米相当于头发丝直径的二万分之一，是集成电路制程工艺最小线宽。台积电宣布2019年将进行5纳米制程试产、预计2020年量产。
据北京市政府新闻办9月9日消息，目前，北方微电子公司自主研发的12英寸28纳米等离子硅刻蚀机，已通过工艺验证。我国集成电路高端装备[0.43%]加快了追赶国际水平的脚步，技术水平已从2003年的“20年差距”缩到“3年”。据了解，在北方微电...
分类：行业趋势 时间：2014/9/10 阅读：137 关键词：国产
近日，由北方微电子开发的ELEDETM330高密度等离子ICP刻蚀机完成组装调试，正式交付客户使用。ELEDETM330是北方微电子半导体刻蚀技术在LED领域的成功扩展，该设备的成功上线，标志着国产LED刻蚀设备已得到主流生产线的认可，使我国高端L
分类：新品快报 时间：2010/6/10 阅读：1481 关键词：lead
北方微电子公司自主研制的12英寸NMC612高密度等离子刻蚀机正式搬入中芯国际北京工厂生产线。作为中国本土企业自主研发的12英寸超大规模集成电路前工序核心设备，NMC612以满足90-65纳米硅刻蚀工艺需求为目标，以提升产品工艺性能和降低成...
分类：名企新闻 时间：2008/3/11 阅读：1556 关键词：生产线
国家集成电路制造装备“100nm高密度等离子刻蚀机与大角度离子注入机”项目新闻发布会暨产品销售签约仪式在京召开
2006年9月28日，国家“十五”863计划集成电路制造装备重大专项“100nm高密度等离子刻蚀机和大角度离子注入机”项目新闻发布会暨产品销售签约仪式在京西宾馆举行，中共中央政治局委员、北京市委书记刘淇，国家科学技术部部长徐冠华、副部...
时间：2007/4/10 阅读：406
