诺发公司VECTOR系统薄膜技术获台积电肯定

类别:新闻资讯  出处:国际电子商情  发布于:2006-11-24 08:54:22 | 1551 次阅读

中国上海诺发系统有限公司(Novellus Systems)日前宣布,该公司的VECTOR系统在台积电(TSMC)2006供应链管理论坛上获得“年度CVD供应商奖”。350多家TSMC供应商参加了这次活动。 
    诺发公司的VECTOR 300mm等离子增强化学气相淀积(PECVD)设备用于高性能IC电介质薄膜的淀积。该系统在薄膜技术上取得了诸多技术革新,同时具有很高的生产力,因此被TSMC所认可。
    TSMC总裁兼CEO蔡力行博士说:“随着我们在半导体产业地位的加强,供应商继续为我们开发低成本和高效的设备、零部件和材料,从而使合作双方进一步增强竞争力,共同迈向成功的未来。”
    诺发公司从2000年开始推出VECTOR系统,该系统能够淀积双嵌入式结构所需的各种电介质薄膜。VECTOR是装机量的300mm CVD系统之一,前10大半导体公司中有9家公司采用了该系统。VECTOR设备初是为130nm和90nm生产设计的,通过技术更新可以延伸到65nm技术节点,同时将产能提高达30%。

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